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Gigaphoton has been evolving its “Green Innovations” leading-edge environmental technologies to significantly reduce helium consumption, thus making a great contribution to the industrial world suffering from a shortage and price rise of helium gas

OYAMA, JAPAN; June 30, 2014 — Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that it has succeeded in the development of an innovative purge process, one that does not use the rare gas helium, for its flagship “GT Series” of ArF immersion lasers. Evolving its leading-edge “Green Innovations” environmental technologies, this innovative helium-free purge process enables significant reduction of helium consumption for lithography tools.

Since its establishment in 2000, Gigaphoton has consistently focused on achieving the highest levels of output power, performance, and stability in the industry, as well as saving on power consumption to deliver the higher efficiency required for environmentally conscious “green fab.” Recently, an unstable supply and a price rise of helium gas have triggered Gigaphoton to work on development of the purge process that does not use helium, teaming up with a leading device manufacturer and a scanner manufacturer. At completion of evaluating the process performance at a Japanese device manufacturer, Gigaphoton has proven that this innovative purge process can be used for volume production.

On Earth, helium is a rare gas — 5.2 ppm by volume in the atmosphere. It is mainly mined as a byproduct when natural gas is mined. Helium has been used in various industries, including for medical equipment, linear motor cars, and semiconductors, and is indispensable for modern life. But consumption of helium in manufacturing has been increased dramatically, and it is forecast that our helium supply will be depleted in approx. 25 years if consumption continues at the current rate. So, the unstable supply and price rise of helium has become a serious issue today.

Gigaphoton recognizes that this issue produces a negative impact upon the entire industrial world. The company has considered how to use a gas substituting for helium as early as possible in order to reduce helium consumption for the purge process and thus help to conserve the helium supply for other industries that require helium more seriously, thus making a great contribution to the industrial world.

Helium is used as a purge gas for optical component modules within a laser light source. It removes active gases and impurities generated within the modules to prevent optical components from being damaged. One laser unit consumes approx. 80-160 kiloliters of helium per year. Therefore, all the laser light sources currently operating worldwide consume approx. 100,000 kiloliters of helium annually.

Instead of helium, Gigaphoton has developed, for the first time in the world, the purge process that uses nitrogen, an inert gas that accounts for approx. 78% of the atmosphere, with a stable supply, and proven that the process can maintain laser performance at the same level as that with helium.

“As a laser supplier supporting the semiconductor manufacturing, we will strive to maintain a stable production environment and stay active to be conscious of global environment and whole industries,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton Inc. “We are committed to proceeding with our EcoPhoton™ program to make further contributions to greening of the semiconductor industry.”

About the EcoPhoton™ Program

The EcoPhoton™ program is a roadmap started in 2003 to implement Green Innovations, focusing on detailed analyses of three key cost-of-ownership (CoO) metrics: cost of consumables (CoC), cost of downtime (CoD), and cost of environment (CoE). The program aims at achieving continuous reduction of these costs by developing innovative green technologies.

About Gigaphoton

Since it was founded in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semiconductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.

Gigaphoton leads the way with cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business — from research and development to manufacturing, to best-in-class reliability and world-class customer support.

For more information, please visit http://www.gigaphoton.com.

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環境負荷を低減するギガフォトンのグリーンイノベーションが着実に進化、ヘリウム消費量の大幅削減で産業界に貢献

栃木県小山市； 2014年6月30日—リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、www.gigaphoton.com）は、本日同社の主要製品である高出力ArF液浸レーザー「GTシリーズ」で、希少ガスであるヘリウムをパージガスとして使用しない技術の開発に成功したことを発表しました。同社が導入を推進する最先端環境技術「グリーンイノベーション」を更に進化させるこのヘリウムフリーパージプロセスによってリソグラフィプロセスでのヘリウムの使用量を大幅に削減することができます。

ギガフォトンでは、2000年の創立以来、KrF及びArFレーザーの高出力・高性能・高安定性を高いレベルで達成するとともに、環境配慮型工場「グリーンファブ」の実現のため省電力化などに注力してきました。近年、ヘリウムガスの供給が不安定になり価格も高騰しているため、同社は半導体メーカー及びスキャナーメーカーと共同でヘリウムガスを使用しない技術の開発に取り組んできました。この度、国内大手半導体メーカーの協力を得て、量産稼働にてこの革新的パージプロセスの性能を評価し量産で活用できることを証明しました。

ヘリウムガスは大気中に微量しか存在しない希少ガスであり、主に天然ガスを採掘する際に副産物として採掘されます。主に医療、リニアモーターカー、半導体産業など様々な分野で活用されており、もはや現代の生活に不可欠なガスとして知られています。製造業におけるヘリウムの需要は増大の一途を辿っており、現在のペースで消費されると25年後には枯渇すると言われ、不安定な供給と価格の高騰が深刻化しています。ギガフォトンでは、これを社会全体の問題と捉え、いち早く代替ガスを採用し、ヘリウムガスをより必要とする他の業界への供給を増加させることで、社会に貢献することを考えてきました。

レーザー内部で、ヘリウムは光学部品モジュールのパージガスとして使用されます。パージガスはモジュール内に発生する活性ガスや不純物を取り除き、光学部品のダメージを防止する役割を果たします。レーザー1台あたり年間約80-160キロリットルのヘリウムガスを消費するため、全世界で稼働する半導体露光光源では、年間約10万キロリットルを消費することになります。

ギガフォトンは、このパージガスとして、ヘリウムの代わりに大気の約78%を占める不活性ガスで、供給も安定している窒素を採用したパージプロセスを世界に先駆けて開発、レーザー性能の維持が可能であることを実証しました。

 ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの都丸仁氏は、こう述べています。「半導体製造を支えるレーザーメーカーとして、安定した生産環境の実現に取り組むとともに、地球環境と産業界全体に配慮した活動を今後も続けて行きたい。私達は今後もEcoPhoton™プログラムを引き続き推進することで、半導体産業のグリーン化に貢献していく所存です」。

 _（注EcoPhoton™プログラムについて

EcoPhoton™プログラムは、2003年以来、ギガフォトンがグリーンイノベーションを実現するために策定したロードマップです。このプログラムでは、レーザーの稼働コスト（Cost of Ownership = CoO）を、消耗部品により発生するコスト（Cost of Consumable = CoC）、ダウンタイムにより発生するコスト（Cost of Downtime=CoD）、環境負荷のコスト（Cost of Environment = CoE）の3種類に分類し、それぞれのコスト要因を詳細に分析、新技術の投入により継続的なコスト低減を目指します。

ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体メーカーのためのユーザーフレンドリーな、高性能DUVレーザー光源を開発、供給してきました。

ギガフォトンは、費用効果と生産性に優れたリソグラフィ光源の大量生産において先導的役割を果たしています。グローバルなビジネス展望を持って、ギガフォトンは、研究開発から製造までの事業のすべての局面においてエンドユーザのニーズに焦点をあて、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートでリソグラフィ光源を供給する世界No.1企業になるよう努力しています。詳細については、www.gigaphoton.comをご覧ください。

報道関係者向けの連絡窓口：

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