[:en]Supports cutting-edge immersion lithography process shrinking while also reducing environmental impact; GT65A is scheduled to ship in 2017
OYAMA, Japan–(BUSINESS WIRE)– Gigaphoton Inc. (Head Office: Oyama, Tochigi; President & CEO: Hitoshi Tomaru; www.gigaphoton.com), a leading manufacturer of light sources used in lithography, has announced the GT65A, a new ArF excimer light source intended for use in cutting-edge immersion lithography. The new product is scheduled to ship sometime in 2017.
The GT65A supports sub 10 nm lithography processes by further evolving the unsurpassed spectral control technologies for which the Gigaphoton ArF platform is renowned. The GT65A comes standard-equipped with environmental impact reducing technologies that include Helium-free operation under all operating conditions and compatibility with hTGM, the company’s Neon gas recycling systems.
Regarding spectral control of the GT65A, it comes standard-equipped with two new technologies. The first of these is “eMPL Solid,” which improves spectral performance stability at a level 400% higher than with existing functionality. eMPL Solid achieves an impressively high level of spectral width (E95) stability at ±5 fm in each exposure field, contributing to improved uniformity in critical dimensions (CD). The other new technology is “hMPL,” which controls E95 by keeping them between 200 and 450 fm. hMPL contributes to maximizing the process window by optimizing E95 according to lithography process.
And Gigaphoton’s Helium free and hTGM technologies, which come standard on the GT65A, have been developed in line with Gigaphoton’s EcoPhotonTM program. These technologies not only reduce environmental impact, but also drastically reduce the risks of future Helium and Neon gas supply shortages and price hikes, thereby Gigaphoton commits providing better sustainability for customers as well.
Hitoshi Tomaru, President & CEO of Gigaphoton says, “Our new GT65A is one of the solutions we have made available to the semiconductor chip manufacturer that is ceaselessly engaged in the challenge of chip size shrinking. It is also a testament to the commitment we have made to the industry since our founding and our contribution to lithography equipment manufacturers. Gigaphoton is committed to continued investment in technology to improve lithography performance.”
Gigaphoton’s ArF excimer light sources, including the GT65A, will be announced at the upcoming international symposium on advanced lithography, “SPIE Advanced Lithography 2017,” to be held from February 26 to March 2 in San Jose, California.
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography
Click to view past news releases on helium-free initiatives
Click to view past news releases on hTGM
About Gigaphoton Since it was founded in 2000, Gigaphoton has delivered valuable solutions to semiconductor manufacturers throughout the world as a light source supplier. In every stage from R&D to manufacture, sales, and maintenance services, Gigaphoton is committed to providing world-class support delivered from the perspective of everyday users. For more information please visit www.gigaphoton.com.
The original source-language text of this announcement is the official, authoritative version. Translations are provided as an accommodation only, and should be cross-referenced with the source-language text, which is the only version of the text intended to have legal effect.
Media contact
Gigaphoton Inc.
Akinori Matsui,+81-285-37-6931
Corporate Planning Division
[:ja]
最先端の液浸露光プロセスの微細化サポートと環境負荷低減を同時に実現、2017年内の出荷を目指す
リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、www.gigaphoton.com）は、新製品である最先端の液浸露光（リソグラフィ）装置向けArFエキシマレーザー「GT65A」を発表しました。同製品は2017年内の出荷を目指します。
GT65Aは、ギガフォトンのArFプラットフォームの特徴である、優れたスペクトルコントロール技術をさらに進化させることにより、1X nm（ナノメートル）以下の微細化プロセスをサポートします。また環境への負荷低減技術を標準搭載しており、あらゆる運転条件下でのヘリウムフリー運転および同社のネオンガスリサイクル装置である「hTGM」対応を標準装備しています。
GT65Aのスペクトルコントロールについては、二つの最新技術を標準搭載しました。一つは、従来機種と比較してスペクトル性能の安定性を4倍高めた「eMPL Solid」です。eMPL Solidはスペクトル幅(E95)の安定性を、露光フィールドごとに±5fm（フェムトメートル）という高いレベルで実現し、CD均一性の向上に貢献します。もう一つは、スペクトル幅を450fmから200fmまでコントロールする「hMPL」です。hMPLはスペクトル幅をプロセスに従って最適化することにより、プロセスウィンドウの最大化に貢献します。
またGT65Aが標準装備している、ギガフォトンのEcoPhotonTMプログラムに沿って開発されたヘリウムフリーおよびhTGM技術は、環境負荷低減だけでなく、ヘリウムガス、ネオンガスにおける将来の供給不足や価格に対するリスクを大幅に減らし、お客様のサステイナビリティ向上にも貢献します。
ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「当社の新製品GT65Aは、絶えず微細化に挑む半導体装置業界へギガフォトンが提示するソリューションの一つであり、創業以来変わることのない業界へのコミットメントと、露光機メーカーに対する貢献の証でもあります。私達は今後も露光性能の向上に向け、技術に投資し続けます。」
GT65Aを始めとするギガフォトンのArFエキシマレーザーについては、米国カリフォルニア州サンノゼで2月26日（米国時間）より3月2日まで開催される先端露光の国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography 2017)で発表予定です。
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
報道関係者向けの連絡窓口：
| ギガフォトン株式会社
経営企画部 松井章記 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com |
[:cs]
同时实现最先进的液浸曝光处理的细微化支持和减少对环境的影响，计划于2017年内上市
栃木县小山市–(BUSINESS WIRE)– (美国商业资讯)–半导体光刻光源的主要生产厂商Gigaphoton公司（总公司地址：栃木县小山市，董事长兼总经理：都丸仁，网址：www.gigaphoton.com）发布了一种新产品——最先进的液浸曝光（光刻）装置专用ArF准分子激光器“GT65A”。该产品计划于2017年内上市。
GT65A对Gigaphoton的ArF平台的特征——卓越的频谱控制技术进行了进一步升级换代，支持1X nm（纳米）以下的细微化工艺，并且依照标准配置了减少对环境影响的技术以及该公司的氖气回收设备——“hTGM”，此设备在任何运转条件下均可进行无氦运转。
在GT65A的频谱控制方面依照标准配置了两项最新技术。其中之一就是“eMPL Solid”。与以往的机型相比，eMPL Solid的频谱性能的稳定性提高了4倍，每个曝光区域均以±5fm（飞米）的高水平实现了频谱宽度（E95）的稳定性，为CD均匀性的提高做出了贡献。另外一种最新技术“hMPL”，它可以将频谱宽度控制在450fm~200fm的范围内，依照工艺流程对频谱宽度进行了优化，为工艺窗口的最大化做出了贡献。
另外，GT65A依照标准配置的无氦及hTGM技术是采用Gigaphoton的EcoPhotonTM程序开发的，不仅能够减少对环境的影响，还可以大幅减少将来氦气和氖气的短缺及价格风险，为客户的可持续发展做出贡献。
Gigaphoton董事长兼总经理都丸仁说：“本公司的新产品GT65A是Gigaphoton为不断向细微化发起挑战的半导体设备行业提供的解决方案之一，同时也是本公司成立以来对业界不变的承诺以及对曝光机生产厂商所做贡献的证明。我们今后仍将一如既往地持续对提高曝光性能的专用技术进行投资。”
关于Gigaphoton以GT65A为代表的ArF准分子激光器，计划在自2月26日（美国时间）起到3月2日于美国加利福尼亚州圣何塞市举办的先进曝光国际论坛（SPIE Advanced Lithography 2017）上发布。
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography
Gigaphoton公司简介 Gigaphoton成立于2000年，是一家激光供应商，自成立以来不断为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。Gigaphoton时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：www.gigaphoton.com。
免责声明：本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用，烦请参照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。
Contacts
新闻媒体专用联系窗口：
Gigaphoton株式会社
经营企划部
松井章记 电话：+81-285-37-6931
[:ct]
同時實現最先進的液浸曝光處理的細微化支援和減少對環境的影響，計劃於2017年內上市
栃木縣小山市–(BUSINESS WIRE)– (美國商業資訊)–半導體微影光源的主要生產廠商Gigaphoton公司（總公司地址：栃木縣小山市，董事長兼總經理：都丸仁，網址：www.gigaphoton.com）發布了一種新產品——最先進的液浸曝光（微影）裝置專用ArF準分子雷射器GT65A。該產品計劃於2017年內上市。
GT65A對Gigaphoton的ArF平臺的特徵——卓越的頻譜控制技術進行了進一步升級換代，支援1X nm（奈米）以下的細微化製程，並且依照標準配置了減少對環境影響的技術在此設備在任何運轉條件下均可進行無氦運轉以及可對應連接該公司的氖氣回收設備hTGM。
在GT65A的頻譜控制方面依照標準配置了兩項最新技術。其中之一就是eMPL Solid。與以往的機型相比，eMPL Solid的頻譜性能的穩定性提高了4倍，每個曝光區域均以±5fm（費米）的高水準實現了頻譜寬度（E95）的穩定性，為CD均勻性的提高做出了貢獻。另外一種最新技術hMPL，它可以將頻譜寬度控制在450fm~200fm的範圍內，依照製程對頻譜寬度進行了最佳化，為製程時段的最大化做出了貢獻。
另外，GT65A依照標準配置的無氦及對應hTGM技術是採用Gigaphoton的EcoPhotonTM程式開發的，不僅能夠減少對環境的影響，還可以大幅減少將來氦氣和氖氣的短缺及價格風險，為客戶的永續發展做出貢獻。
Gigaphoton董事長兼總經理都丸仁說：「本公司的新產品GT65A是Gigaphoton為不斷向細微化發起挑戰的半導體設備產業提供的解決方案之一，同時也是本公司成立以來對業界不變的承諾以及對曝光機生產廠商所做貢獻的證明。我們今後仍將一如既往地持續對提高曝光性能的專用技術進行投資。」
關於Gigaphoton以GT65A為代表的ArF準分子雷射器，計劃在自2月26日（美國時間）起到3月2日於美國加州聖荷西市舉辦的先進曝光國際論壇（SPIE Advanced Lithography 2017）上發布。
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography
Gigaphoton公司簡介 Gigaphoton成立於2000年，是一家雷射供應商，自成立以來不斷為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。Gigaphoton時刻以客戶導向為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支援。如需詳細介紹，請造訪：www.gigaphoton.com。
免責聲明：本公告之原文版本乃官方授權版本。譯文僅供方便瞭解之用，煩請參照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。
Contacts
新聞媒體專用聯絡窗口：
Gigaphoton株式會社
經營企劃部
松井章記 電話：+81-285-37-6931
信箱：web_info@gigaphoton.com[:kr]최첨단 액침 노광 프로세스의 미세화 지원 및 환경부담 감소를 동시에 실현…2017년 연내 출하 목표
오야마, 일본–(Business Wire/뉴스와이어) 2017년 2월 22일 — 반도체 리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 토마루 히토시)는 신제품인 최첨단 액침 노광(리소그래피) 장치용 ArF 엑시머 레이저 ‘GT65A’를 발표했다. 이 제품은 2017년 연내 출하를 목표로 하고 있다.
GT65A는 기가포톤의 ArF 플랫폼의 특징인 뛰어난 스펙트럼 컨트롤 기술을 더욱더 진화시킴으로써 1Xnm(나노미터) 이하의 미세화 프로세스를 지원한다. 또한 환경부담 절감 기술을 표준으로 탑재하고 있으며, 모든 운전조건 하에서의 무헬륨(Helium Free) 운전 및 네온가스 재활용 장치인 ‘hTGM’ 대응을 표준장비로 갖추고 있다.
GT65A의 스펙트럼 컨트롤은 두 가지 최신기술을 표준으로 탑재했다. 그 중 한 기술은 종래의 기종과 비교하여 스펙트럼 성능 안정성을 4배 높인 ‘eMPL Solid’이다. eMPL Solid는 스펙트럼 폭(E95)의 안정성을 노광 필드마다 ±5fm(펨토미터)라고 하는 높은 레벨에서 실현하였으며, CD균일성 향상에 기여한다. 나머지 기술은 스펙트럼 폭을 450fm에서 200fm까지 컨트롤 하는 ‘hMPL’이다. hMPL은 스펙트럼 폭을 프로세스에 따라 최적화함으로써 프로세스 윈도우의 최대화에 기여한다.
또한 GT65A가 표준장비로 갖추고 있는 기가포톤의 에코포톤(EcoPhotonTM) 프로그램에 따라 개발된 무헬륨 및 hTGM 기술은 환경부담 절감뿐 아니라 향후 헬륨가스와 네온가스의 공급부족 및 가격에 대한 리스크를 대폭 줄임으로써 고객 지속가능성 향상에도 기여한다.
기가포톤 대표이사 사장 토마루 히토시는 “당사의 신제품 ‘GT65A’는 끊임없이 미세화에 도전하는 반도체 장치 업계에 기가포톤이 제시하는 솔루션 중 하나이며, 창업 이래 업계에 대한 변함없는 약속과 노광기 제조업체에 대한 공헌의 증거이기도 하다”고 말했다. 이어 “기가포톤은 앞으로도 노광 성능 향상을 위해 지속적으로 기술에 투자하겠다”고 밝혔다.
GT65A를 비롯한 기가포톤의 ArF 엑시머 레이저에 대해서는 미국 캘리포니아주 새너제이에서 2월 26일(미국시간)부터 3월 2일까지 개최되는 ‘첨단 노광 국제 심포지엄(SPIE Advanced Lithography 2017)’에서 발표할 예정이다.
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography 참조
무헬륨에 관한 과거 보도자료는 www.gigaphoton.com/ja/news/4682 참조
hTGM에 관한 과거 보도자료는 www.gigaphoton.com/ja/news/3797 참조
기가포톤(Gigaphoton) 개요
기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 세계 반도체 메이커에 제공해 왔다. 기가포톤은 초기 연구 개발 단계부터 제조, 판매, 보수 서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계 최고 수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.
[이 보도자료는 해당 기업에서 원하는 언어로 작성한 원문을 한국어로 번역한 것이다. 그러므로 번역문의 정확한 사실 확인을 위해서는 원문 대조 절차를 거쳐야 한다. 처음 작성된 원문만이 공식적인 효력을 갖는 발표로 인정되며 모든 법적 책임은 원문에 한해 유효하다.
언론 연락처
기가포톤(Gigaphoton Inc.)
기업기획부(Corporate Planning Department)
마쓰이아키노리(Akinori Matsui)
+81-285-37-6931
web_info@gigaphoton.com
[:]