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Changing spectral width target values in response to increased semiconductordemand for the IoT
Oyama, Tochigi; September 12, 2017 — Gigaphoton Inc. (Head Office: Oyama, Tochigi; President & CEO: Katsumi Uranaka), a leading manufacturer of light sources used in semiconductor lithography, introduced their latest optical design and manufacturing technology (= Cutting Edge Solution), and announced the development of Spectral Width Control Technology, “hMPL”. hMPL has already received highly favorable evaluations from chip manufacturers in pilot experiments, and will go on to respond to future advanced semiconductor manufacturing applications.
Spectral width is one of the most important parameters in the semiconductor lithography process. Gigaphoton’s hMPL decreased the optical thermal load for the LNM (Line-Narrowing Module) and reduced the spectral width target value from the existing 300 fm (femtometers) to 200 fm. In addition, by introducing a new control algorithm, widening to an upper limit of up to 450 fm became possible.
The following two points illustrate the advantages of hMPL. Firstly, through narrowing the existing spectral width, contrast improves and the process window widens. Secondly, as the spectral width can be varied, it is possible to adjust contrast differences between exposure devices. For semiconductor manufacturing for the IoT, this is an effective method when old and new exposure equipment is used in combination. With these advantages, hMPL improves the margin for the exposure process, contributing to process optimization and to improvements in chip productivity.
hMPL will be installed as standard on the GT65A* scheduled for shipment at the end of 2017.
Katsumi Uranaka, President & CEO of Gigaphoton commented, “Spectral Width Control Technology, (hMPL) was developed to meet the demand for semiconductors, which is expected to increase still further with the growth of an IoT-based society. We will continue to contribute to the semiconductor industry, supporting our customers with state-of-the-art technology. ”
*A news release concerning the GT65A is available at http://www.gigaphoton.com/en/news/4938
About Gigaphoton
Since it was founded in 2000, Gigaphoton has delivered valuable solutions to semiconductor manufacturers throughout the world as a light source supplier. In every stage from R&D to manufacture, sales, and maintenance services, Gigaphoton is committed to providing world-class support delivered from the perspective of everyday users. For more information please visit Welcome to Gigaphoton.
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Katsutomo Terashima
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スペクトル幅ターゲット値を変化させ、IoT向け半導体需要増加に対応
栃木県小山市；2017年9月12日 —半導体リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、最新の光学設計製造技術(=Cutting Edge Solution)を導入した、スペクトル幅制御技術 「hMPL」を開発したと発表しました。hMPLは、すでにチップメーカーでの実機評価にて高評価を得ており、今後の最先端の半導体製造アプリケーションに応えていきます。
半導体リソグラフィ工程においてスペクトル幅は最も重要なパラメータの1つですが、ギガフォトンのhMPLは、LNM(狭帯域化モジュール)の光学的な熱負荷を低減し、スペクトル幅ターゲット値を従来の300fm(フェムトメートル)から200fmに縮小しました。また、新たな制御アルゴリズムを導入することにより、上限値を450fmまで拡大することも可能としました。
このhMPLのメリットは以下の2点です。一点目は、スペクトル幅を従来より細くできるためコントラストが向上しプロセスウィンドウが広くなります。二点目はスペクトル幅を変更できるため、露光装置間のコントラストの違いを調整することができます。これはIoT向け半導体製造のように、露光装置を新旧取り混ぜて用いる場合に有効な手段となります。これらのメリットにより、hMPLは露光プロセスの余裕度を向上させ、プロセスの最適化、チップの生産性向上に貢献します。なおhMPLは、2017年末出荷予定のGT65A*に標準搭載されます。
ギガフォトン代表取締役社長の浦中克己はこうコメントしています。「スペクトル幅制御技術「hMPL」は、IoT社会の発展により今後さらに増えると予想される半導体需要に応えるため開発されました。我々はこれからも最先端技術でお客様をサポートし、半導体業界に貢献していきます。」
*GT65Aに関するニュースリリースはこちら http://www.gigaphoton.com/ja/news/4938
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
報道関係者向けの連絡窓口：
| ギガフォトン株式会社
経営企画部 寺嶋克知 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com |
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改变光谱宽度目标值，以应对IoT半导体需求的增加
栃木县小山市–2017年9月12日–半导体光刻光源的主要供应商Gigaphoton 株式会社（总部位于栃木县小山市，董事长兼总经理：浦中克己）宣布，公司已经开发出采用最新光学设计制造技术(=Cutting Edge Solution)的光谱宽度控制技术“hMPL”。“hMPL”已经在芯片厂家的实机测评中获得高度评价，今后或将用于最先进的半导体制造工艺。
在半导体光刻工程中，光谱宽度是最重要的参数之一。Gigaphoton的hMPL能够降低LNM（窄频帯域模块）的光学热负荷，将光谱宽度由原来的300fm缩小到200fm。同时，因引进了新的控制算法，有望将上限值扩大到450fm。 hMPL有两大优点。其一，光谱宽度比以往窄，对比度增强，程序窗口变大。其二，由于光谱宽度可以改变，因而可以调整曝光装置之间的对比差异。这一特点使之与IoT半导体制造一样，可有效地混合使用新旧曝光装置。基于这些优势，hMPL可以提高曝光过程的充裕度，优化过程，提高芯片的生产性能。 另外，hMPL将搭载于2017年末出厂的GT65A*上。
Gigaphoton董事长兼社长浦中克己先生表示：“今后随着IoT公司的发展，对半导体的需求也将增加，光谱宽度控制技术hMPL就是为了应对半导体需求增加而开发的。今后，我们将一如既往地采用最先进的技术来支持客户，为半导体产业做出贡献。”
如需查看有关*GT65A的新闻稿，请点击http://www.gigaphoton.com/ja/news/4938
Gigaphoton公司简介 Gigaphoton公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。Gigaphoton时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：www.gigaphoton.com。
免责声明：本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用，烦请参照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。
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改變光譜寬度目標值，以因應IoT半導體需求的增加
栃木縣小山市–(BUSINESS WIRE)– (美國商業資訊)–半導體微影光源的主要供應商Gigaphoton株式會社（總部 ：栃木縣小山市，社長 ：浦中克己）宣布，公司已經開發出採用最新光學設計生產技術的光譜寬度控制技術hMPL。hMPL在晶片廠的實機測評中獲得高度評價，將運用於今後最先進的半導體製程技術。
在半導體微影工程中，光譜寬度是最重要的參數之一。Gigaphoton的hMPL能夠降低LNM（窄頻模組）的光學熱負荷，將光譜寬度由原來的300fm(femto meter)縮小到200fm。同時，因引進了新的控制演算法，可望將上限值擴大到450fm。 hMPL有兩大優點。其一，光譜寬度比以往窄，對比度增強，提升製程容許範圍。其二，由於光譜寬度可以改變，因而可以調整曝光裝置之間的對比差異。這項特點使得與IoT半導體生產一樣，可有效地混合使用新舊曝光裝置。基於這些優勢，hMPL可以提高曝光過程的充裕度，將製程最佳化，提高晶片的生產效能。 另外，hMPL將搭載於2017年底出廠的GT65A上。
Gigaphoton社長浦中克己先生表示：「今後隨著IoT公司的發展，對半導體的需求也將增加，光譜寬度控制技術hMPL就是為了因應半導體需求增加而開發的。今後，我們將一如既往地採用更先進的技術來支援客戶，為半導體產業做出貢獻。」
如需查看有關*GT65A的新聞稿，請造訪http://www.gigaphoton.com/ja/news/4938
Gigaphoton公司簡介 Gigaphoton公司成立於2000年，作為一家雷射器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。Gigaphoton時刻以客戶為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請您造訪：www.gigaphoton.com。
免責聲明：本公告之原文版本乃官方授權版本。譯文僅供方便瞭解之用，煩請參照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。
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스펙트럼 폭 목표치를 변화시켜 IoT용 반도체 수요 증가에 대응
일본 오야마시–(Business Wire/뉴스와이어) 2017년 9월 12일 — 반도체 리소그래피 광원의 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)가 최신 광학 설계 제조기술(=Cutting Edge Solution)을 도입한 스펙트럼 폭 제어기술 ‘hMPL’을 개발했다고 발표했다. hMPL은 이미 칩 제조업체의 실기평가(pilot experiment)에서 높은 평가를 받았으며 향후 최첨단 반도체 제조 애플리케이션에 대응해 나갈 예정이다.
반도체 리소그래피 공정에서 스펙트럼 폭은 가장 중요한 파라미터 중 하나인데 기가포톤의 hMPL은 LNM(협대역화 모듈)의 광학적인 열부하를 절감하여 스펙트럼 폭 목표치를 종래의 300fm(펨토미터)에서 200fm로 축소했다. 또한 새로운 제어 알고리즘을 도입함으로써 상한치를 450fm까지 확대를 가능하게하였다.
hMPL의 메리트는 두 가지이며 첫 번째는 종래보다 스펙트럼 폭을 좁게 할 수 있기 때문에 콘트라스트가 향상되어 프로세스 윈도우가 넓어진다. 두 번째는 스펙트럼 폭을 변경할 수 있기 때문에 노광장치 간의 콘트라스트 차이를 조정할 수 있다. 이것은 IoT용 반도체 제조처럼 종래의 노광장치와 새로운 노광장치를 동시에 사용할 경우에 유효한 수단이 된다. 이러한 장점으로 인해 hMPL은 노광 프로세스의 여유폭을 향상시켜 프로세스의 최적화 및 칩의 생산성 향상에 기여한다.
더하여 hMPL은 2017년 말에 출하 예정인 GT65A*에 표준 탑재된다.
대표이사 사장 우라나카 카츠미는 “스펙트럼 폭 제어기술 ‘hMPL’은 IoT 사회의 발전으로 인해 앞으로 더 늘어날 것으로 예상되는 반도체 수요에 대응하기 위해 개발되었으며. 당사는 앞으로도 최첨단 기술로 고객을 지원하면서 반도체 업계에 기여해 나가겠다”고 말했다.
*GT65A에 관한 보도자료는 http://www.gigaphoton.com/ja/news/4938 참조
기가포톤(Gigaphoton) 개요
기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.
언론 연락처
기가포톤주식회사
경영기획부
테라시마 가츠토모
+81-285-37-6931
web_info@gigaphoton.com[:]