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Improved downtime of lithography light sources by up to 50%, contributing significantly to increase the availability of lithography equipment Responding to growing demand for semiconductors
In January, Gigaphoton Inc. (Head office: Oyama City, Tochigi Prefecture. President & CEO: Katsumi Uranaka), a major manufacturer of lithography light sources, announced the shipment of an ArF Excimer Laser for advanced immersion exposure (lithography) devices, the “GT65A” Unit 1, as a new product that meets the growing demand for semiconductors in recent years. The new technology of the GT65A significantly contributes to the rise in productivity of lithography equipment by providing stable operation of the laser and improvement of process margins.
The GT65A will also deliver a 50% reduction in service downtime. This key feature is realized by increasing chamber lifetime by 30% as well as improving maintenance efficiency through the utilization of extensive service data expertise acquired through many years of successful service execution.
In addition, the stabilization technology “eMPL Solid” and the control function “hMPL,” which form the spectrum control function, enable the improvement of CD uniformity as well as expanding process latitude.
Furthermore, the GT65A has successfully eliminated the need to use helium gas. Due to this, we are able to contribute to enhancing customers’sustainability and CSR activities by not only reducing environmental impact, but also by greatly reducing risks associated with future helium gas supply deficits and price increases.
Katsumi Uranaka, President & CEO of Gigaphoton commented, “With the boom in recent years of the semiconductor market, improving the availability of lithography equipment is an important issue for each manufacturer. With the new technology in line with our new roadmap ‘RAM Enhancement,’ we have further strengthened and improved the Reliability, Availability and Maintainability of lithography light sources, contributing to the semiconductor manufacturing industry.”
Past news releases on the GT65A can be found here.
Past news releases on RAM Enhancement can be found here.
Past news releases on helium free can be found here.
About Gigaphoton
Since it was founded in 2000, Gigaphoton has delivered valuable solutions to semiconductor manufacturers throughout the world as a laser supplier. In every stage from R&D to manufacture, sales, and maintenance services, Gigaphoton is committed to providing world-class support delivered from the perspective of everyday users. For more information please visit www.gigaphoton.com
Media contact:
| Gigaphoton Inc
Corporate Planning Division Katsutomo Terashima TEL: +81-285-37-6931 E-mail: web_info@gigaphoton.com |
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リソグラフィ光源のダウンタイムを最大50％改善し、リソグラフィ装置稼働率向上に大きく貢献
高まる半導体需要に応える
リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は1月、近年の高まる半導体需要に応える新製品、最先端の液浸露光（リソグラフィ）装置向けArFエキシマレーザー、「GT65A」1号機を出荷したと発表しました。GT65Aはレーザーの安定稼働とプロセスマージンの向上を提供し、リソグラフィ装置の生産性向上に大きく貢献します。
GT65Aの特徴であるダウンタイム最大50％の改善は、主要モジュールであるチャンバの寿命を30％延長させたことと、これまでギガフォトンが積み上げてきた経験とノウハウをベースとしたメンテナンスの効率化により実現しました。
また、スペクトル制御機能である安定化技術「eMPL Solid」と、コントロール機能「hMPL」は、CDの均一性の向上およびプロセスの最適化と拡張性を可能にしています。
さらに、GT65Aはヘリウムガスの無使用化を実現しています。これにより、環境負荷低減だけでなく、将来におけるヘリウムガスの供給不足や価格高騰の際のリスクを大幅に減らし、お客様のサステイナビリティ向上とCSR活動に貢献します。
ギガフォトン代表取締役社長の浦中克己はこうコメントしています。「近年の半導体市場の好況を受け、リソグラフィ装置の稼働率向上が各メーカーの重要課題となっています。私たちは新ロードマップ“RAM Enhancement”に沿った新技術により、リソグラフィ光源の信頼性（Reliability）・稼働率（Availability）・保守効率性（Maintainability）を一層強化・改善し、半導体製造業界に貢献します。」
RAM Enhancemenに関する過去のニュースリリースはこちら
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
報道関係者向けの連絡窓口：
| ギガフォトン株式会社
経営企画部 寺嶋 克知 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com |
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最大可缩短50%的光刻光源中断时间 为提高光刻光源装置稼动率做出极大贡献 应对半导体需求的不断高涨
日本栃木县小山市–(BUSINESS WIRE)– (美国商业资讯)–半导体光刻光源的主要供应商Gigaphoton株式会社（母公司：栃木县小山市，董事长：浦中克己）发布公告称, 公司1月份已经向客户供给最新半导体产品以满足近年来不断高涨的需求，面向最先进的液浸式漏光（光刻）装置的ArF受激准分子激光器“GT65A”1号机。“GT65A”改善了激光器的稳定稼动性能及制程范围，为提高光刻装置的生产性能做出了极大贡献。
GT65A最多可缩短50%的中断时间，这一特征是通过将作为主要模块的腔体寿命延长30%，并以Gigaphoton迄今为止积累的经验和技术为基础，提高维修效率而实现的。
另外，具有光谱控制功能的稳定化技术“eMPL Solid”，以及控制功能“hMPL”提高了CD的均一性，并且优化程序，使扩展性成为可能。
同时,GT65A实现了不使用氦气的目标，这不仅减轻了环境负荷，而且大幅度降低了未来氦气供给不足以及价格飞涨的风险，为客户提高环境可持续发展及CRS活动做出了贡献。
Gigaphoton董事长浦中克己发表评论说，“近年来半导体市场发展良好，提高光刻装置的稼动率成为各厂家的重要课题。我们将沿着新技术路线图‘RAM Enhancement’，采用新技术，进一步强化并改善光刻光源的可靠性（Reliability）、稼动率（Availability）、维修效率（Maintainability），为半导体制造业做出贡献。”
有关GT65A的过往新闻,请点击这里。 有关RAM Enhancemen的过往新闻,请点击这里。 有关无氦使用的过往新闻,请点击这里。
Gigaphoton公司简介
Gigaphoton公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。Gigaphoton时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：www.gigaphoton.com。
新闻媒体专用联系窗口：
Gigaphoton株式会社
经营企划部
寺岛克知
电话： +81-285-37-6931
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最大可縮短50%的微影光源中斷時間 為提高微影光源裝置稼動率做出極大貢獻 因應半導體需求的不斷高漲
日本栃木縣小山市–(BUSINESS WIRE)– (美國商業資訊)–半導體微影光源的主要供應商Gigaphoton株式會社（母公司：栃木縣小山市，董事長：浦中克己）發布公告指出，公司1月份已經向客戶供應最新半導體產品以滿足近年來不斷高漲的需求，適用於最先進的浸潤式漏光（微影）裝置的ArF準分子雷射器GT65A 1號機。GT65A改善了雷射器的穩定稼動性能及製程範圍，為提高微影裝置的生產力做出了極大貢獻。
GT65A最多可縮短50%的中斷時間，這一特徵是透過將作為主要模組的腔體壽命延長30%，並以Gigaphoton迄今為止累積的經驗和技術為基礎，提高維修效率而實現的。
另外，具有光譜控制功能的穩定化技術eMPL Solid，以及控制功能hMPL提高了CD的均一性，並且最佳化製程，使延展性成為可能。
同時，GT65A實現了不使用氦氣的目標，這不僅減輕了環境負荷，而且大幅度降低了未來氦氣供給不足以及價格飛漲的風險，為客戶提高環境永續發展及CRS活動做出了貢獻。
Gigaphoton董事長浦中克己發表評論說：「近年來半導體市場發展良好，提高微影裝置的稼動率成為各廠商的重要課題。我們將沿著新技術藍圖RAM Enhancement，採用新技術，進一步強化並改善微影光源的可靠性（Reliability）、稼動率（Availability）、維修效率（Maintainability），為半導體製造業做出貢獻。」
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Gigaphoton公司簡介
Gigaphoton公司成立於2000年，作為一家雷射器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。Gigaphoton時刻以客戶為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請造訪：www.gigaphoton.com。
免責聲明：本公告之原文版本乃官方授權版本。譯文僅供方便瞭解之用，煩請參照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。
新聞媒體專用聯絡窗口：
Gigaphoton株式會社
經營企劃部
寺島克知
電話： +81-285-37-6931
電子信箱： web_info@gigaphoton.com[:kr]
리소그래피 광원의 다운타임을 최대 50％ 개선함으로써
리소그래피 장치의 가동률 향상에 크게 기여
높아지는 반도체 수요에 대응
오야마, 일본–(Business Wire/뉴스와이어) 2018년 2월 20일 — 리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)가 1월 최근의 높아지는 반도체 수요에 대응할 신제품, 최첨단 액침 노광(리소그래피) 장치용 ArF 엑시머 레이저, ‘GT65A’ 1호기를 출하했다고 발표했다.
GT65A는 레이저의 안정 가동 및 공정 마진을 향상함으로써 리소그래피 장치의 생산성 향상에 크게 기여한다.
GT65A의 특징은 다운타임을 최대 50％ 개선한 것이다. 이는 주요 모듈인 챔버의 수명을 30％ 연장시킨 것과 지금까지 기가포톤이 축적해 온 경험과 노하우를 바탕으로 한 유지보수의 효율화를 통해 실현했다.
또한 스펙트럼 제어 기능인 안정화 기술 ‘eMPL Solid’와 컨트롤 기능 ‘hMPL’은 CD 균일성 향상 및 프로세스 최적화와 확장성을 가능하게 했다.
이에 더하여 GT65A는 헬륨가스를 사용하지 않도록 했다. 이를 통해 환경부담 절감뿐 아니라 미래의 헬륨가스 공급부족이나 가격 급등 시의 리스크를 대폭 줄임으로써 고객의 지속가능성 향상 및 CSR 활동에 기여하게 된다.
대표이사 사장 우라나카 카츠미는 “최근의 반도체 시장이 호황을 보임에 따라 리소그래피 장치의 가동률 향상이 각 제조업체들의 주요 과제가 되었다”며 “기가포톤은 새로운 로드맵 ‘RAM Enhancement’에 따른 신기술을 통해 리소그래피 광원의 신뢰성(Reliability)· 가동률(Availability)·보수효율성(Maintainability)을 더욱더 강화하고 개선하여 반도체 제조업계에 기여하겠다”고 말했다.
GT65A 관련 과거 보도자료: http://www.gigaphoton.com/ja/news/4938
RAM Enhancemen 관련 과거 보도자료: http://www.gigaphoton.com/ja/news/5223
무헬륨 관련 과거 보도자료: http://www.gigaphoton.com/ja/news/4682
기가포톤(Gigaphoton) 개요
기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 항상 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.
언론 연락처
기가포톤주식회사
경영기획부
테라시마 가츠토모
+81-285-37-6931