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December 16, 2020
Equipped with New Technologies to Accelerate a Technological Shift
Oyama, Tochigi; December 16, 2020, GIGAPHOTON Inc. (Head office: Oyama, Tochigi; President & CEO: Katsumi Uranaka), a manufacturer of light sources for semiconductor lithography, has announced the start of mass production and shipment of the ArF immersion “GT66A” light source using new technologies for state-of-the-art semiconductor lithography manufacturing.
Leading-edge device manufacturing has now begun with the process development of 3 nm nodes for logic devices and mass production of 1 Znm DRAM. For these ultra-fine devices, reducing the roughness of the exposure patterns transferred to wafers is a challenge. It is important to reproduce the circuit pattern precisely and increase the yield in mass production.
The new ArF immersion “GT66A” light source is equipped with a newly developed optical module that successfully improves the beam uniformity on the exposed surface and reduces the roughness by increasing the temporal coherence length by at least 3 times that of the existing model. The maintenance cycle of the module has been extended by 30% with the introduction of the latest components with high durability.
GT66A is now certified as a light source for the latest ARF immersion lithography equipment NXT:2050i by ASML, the leading Dutch company, and mass production and shipment of the light source to end-users will now commence.
Katsumi Uranaka, President and CEO of GIGAPHOTON, said: “In recent years, semiconductor chips are required to support even faster communication speeds and process larger amounts of data. This is mainly supported by the miniaturization of logic and memory semiconductors and requires higher productivity through further innovation of lithography technology. GIGAPHOTON will continue its contribution to the development of the next generation of industries by improving the imaging performance through technological innovation and increasing the availability of light sources.”
About GIGAPHOTON
Since it was founded in 2000, GIGAPHOTON has delivered valuable solutions to semiconductor manufacturers throughout the world as a laser supplier. In every stage from R&D to manufacture, sales, and maintenance services, GIGAPHOTON is committed to providing world-class support delivered from the perspective of everyday users. For more information please visit https://www.gigaphoton.com/en/
Media contact:
GIGAPHOTON Inc
Corporate Planning Division
Kenji Takahisa
TEL: +81-285-37-6931
E-mail: web_info@gigaphoton.com[:ja]
2020年12月16日
テクノロジーシフトを加速する新技術を提供
栃木県小山市；2020年12月16日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新技術を採用した最新半導体製造ArF液浸用リソグラフィ光源「GT66A」の量産出荷を開始したと発表しました。
最先端デバイス製造は、現在、ロジックデバイスでは3nmノードのプロセス開発が開始、DRAMでは1Znmノードの量産が開始されています。これらの超微細デバイスでは、ウエハに転写される露光パターンのラフネス低減が課題となっており、回路パターンを忠実に再現し量産でのイールド向上が重要となっています。
新型ArF液浸用光源「GT66A」は、新開発の光学モジュールによりパルス発光時間を従来の3倍以上伸長することで、露光面でのビーム均一性の改善を実現し、ラフネスを低減することに成功しました。更に、最新の高耐久性部品を導入することにより、モジュールのメンテナンスサイクルを30%延長しました。
GT66Aは、この度、オランダ大手ASML社の最新ArF液浸露光装置NXT:2050i用光源としての認定が完了し、エンドユーザに向けた光源の量産出荷が開始されます。
ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「近年の半導体チップには通信速度のさらなる高速化とより大量のデータ処理が求められています。それを主に支えるのはロジックやメモリ半導体の微細化であり、更なるリソグラフィ技術の革新による高い生産性が求められています。ギガフォトンは技術革新によるイメージング性能の改善と、光源のアベイラビリティの向上により、次世代の産業界の発展に貢献していきます。」
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
報道関係者向けの連絡窓口：
ギガフォトン株式会社
経営企画部
高久賢次
TEL: 0285-37-6931
Eメール: web_info@gigaphoton.com[:cs]
2020年12月16日
提供加快技术转移的新技术
栃木县小山市；2020年12月16日，半导体光刻光源制造商Gigaphoton股份有限公司（总部: 栃木县小山市、董事长兼总经理: 浦中克己）宣布，已开始批量生产出厂采用新技术的最新半导体制造光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”。
目前，最尖端产品制造开始为逻辑器件开发3nm节点工艺，并开始批量生产用于DRAM的1Znm节点。如何在这些超微细器件中降低转印到晶圆上的曝光图案的粗糙度是一个难题，而且重要的是忠实地再现电路图案并提高批量生产的成品率。
新型光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”通过新开发的光学模块将脉冲发光时间延长到以前的3倍以上，从而改善曝光面的光束均匀性，成功降低粗糙度。还通过引入最新的高度耐用零件，将模块的维护周期延长30%。
此次，GT66A已通过荷兰大厂ASML公司最新ArF浸没式曝光设备NXT:2050i用光源的认证，开始为最终用户批量生产出厂光源。
Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“近年来，半导体芯片被要求具有更高的通信速度，并且可以处理大量数据。主要支持它的是逻辑和存储器半导体的细微化，这需要光刻技术的进一步创新来实现高生产率。Gigaphoton将通过技术创新改善成像性能并提高光源的Availability，为新一代产业界的发展做出贡献。”。
GIGAPHOTON公司简介
GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：https://www.gigaphoton.com/cs/。
新闻媒体专用联系窗口：
GIGAPHOTON株式会社
经营企划部
高久贤次
电话：+81-285-37-6931
邮箱：web_info@gigaphoton.com[:ct]
2020年12月16日
提供能加速技術轉換的新技術
栃木縣小山市；2020年12月16日，半導體微影光源製造商Gigaphoton股份有限公司（總公司: 栃木縣小山市；總裁：浦中克己）宣布採用新技術之最新半導體製造用ArF液浸用光刻光源「GT66A」已正式開始量產出貨。
在現今的最尖端製品製程中，邏輯製品的3nm節點已開始進行製程開發工作，而DRAM的1Znm節點製品也已開始進行量產。而在製造這些超細微製品時最大的課題，就是如何降低曝光圖樣轉印到晶圓上時的微影粗糙度，因此如何忠實重現迴路圖樣並提升良率，便顯得格外重要。
新型ArF液浸用光刻光源「GT66A」採用新開發的光學模組，使脈衝發光時間提升至原有之三倍以上，成功改善曝光面上之光束均勻度，從而降低轉印時的粗糙度。另外，更引進最新的高耐久性零件，使模組的保養維護周期延長了30%。
GT66A已完成荷蘭大廠ASML公司最新ArF液浸曝光裝置NXT:2050i的光源認証，並開始為終端用戶量產出貨光源。
Gigaphoton總裁兼CEO浦中克己表示：「近年來半導體晶片的開發訴求都是以提升通訊速度及處理更大量資訊為目標。為了達到這樣的目標，就必須進行邏輯及記憶半導體的微型化，並透過革新光刻技術來提高產能。Gigaphoton今後也將致力於透過技術革新來改善成像性能，並提升光源的Availability，以對新時代產業界之發展做出貢獻。」
關於GIGAPHOTON
2000年成立以來，GIGAPHOTON作為雷射光源製造供應商，不斷提供具有價值且高度整合方案給全球半導體廠商。GIGAPHOTON從研究開發以至製造・銷售・保修服務的所有環節，將承諾秉持著客戶導向的精神，堅持業界最高水準的技術服務持續邁進。詳細資訊請參閱網站https://www.gigaphoton.com/ct/。
新聞公關聯絡窗口:
GIGAPHOTON
經營企畫部
高久賢次
TEL: 0285-37-6931
Email: web_info@gigaphoton.com[:kr]
2020년 12월 16일
테크놀로지 시프트를 가속시키는 신기술을 제공
토치기현 오야마시; 2020년 12월 16일, 반도체 리소그래피용 광원 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)는 신기술을 채용한 최신 반도체 제조 ArF 액침용 리소그래피 광원 ‘GT66A’의 양산 출하를 시작했다고 발표했습니다.
현재 로직 디바이스로는 3nm 노드의 프로세스 개발을 시작, DRAM으로는 1Znm 노드의 양산을 시작해 최첨단 디바이스를 제조하고 있습니다. 이러한 초미세 디바이스에서는 웨이퍼에 전사되는 노광 패턴의 러프니스를 저감해야 하고, 회로 패턴을 충실히 재현해 양산 수율을 향상하는 것이 중요합니다.
신형 ArF 액침용 광원 ‘GT66A’는 새로 개발된 광학 모듈로 펄스 발광 시간을 기존의 3배 이상 늘려 노광면에서의 빔 균일성을 개선하였고 러프니스를 저감하는 데 성공했습니다. 또한 최신 고내구성 부품을 도입하여 모듈의 유지 보수 주기를 30% 연장했습니다.
GT66A는 금번 네덜란드 대기업 ASML사의 최신 ArF 액침 노광 장치 NXT:2050i용 광원으로서 인증이 완료돼 고객을 위한 양산 출하를 시작합니다.
기가포톤 대표이사 사장 겸 CEO 우라나카 카츠미 씨는 이렇게 말하고 있습니다. “최근 반도체 칩에는 통신 속도의 고속화와 더 많은 양의 데이터 처리가 요구되고 있습니다. 이를 뒷받침하는 주요소는 로직과 메모리 반도체의 미세화이며, 더 발전한 리소그래피 기술혁신을 통한 높은 생산성이 요구됩니다. 기가포톤은 기술 혁신을 통해 이미징 성능을 개선하고 광원의 가용성을 향상하여 차세대 산업계 발전에 공헌해 나가겠습니다.”
기가포톤(Gigaphoton) 개요
기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 서포트를 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.
언론 연락처
기가포톤주식회사
경영기획부
타카히사 켄지
+81-285-37-6931
web_info@gigaphoton.com[:]