ギガフォトン（社長：杉本　伸太郎）は、かねてより半導体製造装置である露光機の大手メーカ、オランダのASML社向けエキシマレーザの開発を進めてきました。
２０００年から始まったASML社でのレーザ評価が終了し、ASML社はギガフォトンのKrF（248 nm）レーザを同社の半導体露光機であるスキャナーの光源として販売することを決定しました。
第１号機は韓国の大手DRAMメーカの量 産ラインに使われることになり、この度韓国での設置が完了し生産が始まりました。
ギガフォトンは全世界で２００台以上のエキシマレーザを既に設置していますが、ASML社の露光機に搭載されるのは今回が初めてとなります。

ギガフォトンはコマツとウシオ電機のジョイントベンチャーとして２０００年８月に露光機用エキシマレーザの製造・販売 のために設立されました。　半導体デバイス設計ルール（設計パターン幅）は年々細密化が進んでおり、従来は水銀ランプを光源とした半導体露光装置で対応で きた半導体も、エキシマレーザを光源とした露光装置が必要不可欠な生産ラインが急増してきています。　ギガフォトンでは露光装置の大手メーカである ASML社がギガフォトンレーザを採用したことからさらなるマーケットシェアの拡大を期待しています。
採用されたエキシマレーザの主要仕様は以下の通りとなります。