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September 16, 2019

Introduced cutting-edge technology on ArF immersion, meeting with further customer needs

Oyama, Tochigi; September 16, 2019 — GIGAPHOTON Inc. (Head Office: Oyama, Tochigi; President & CEO: Katsumi Uranaka), a manufacturer of light sources used in semiconductor lithography, has announced that new model light source “GT45A” for ArF dry lithography tool had been shipped in August 2019.

State-of-the-art semiconductor manufacturing processes involve 10/7 nm (nanometer) technology nodes, and with the introduction of EUV light sources, further advancing to 7nm and beyond are attracting attention for the future. On the other hand, due to further demands including the spread of IoT, the semiconductor demand is expected to increase for primarily technically mature nodes such as 14-65mm nodes, leading to the expansion of production capacity through new investment and the upgrade of existing fabs. Accordingly, there is demand for further improvements for dry lithography equipment in high productivity and high availability are becoming essential for lithography tool.

By applying the following light source technologies for ArF immersion that have already been introduced to production sites, the GT45A is equipped for functional augmentation to meet an extensive range of user expectations.

  • The lifetime of the main modules can be extended up to 50% compared to conventional products, and its leads the tool availability can be improved.
  • By increasing the maximum output power to 90W, provides further productivity improvements.
  • By being capable of supporting repetition rate from 4kHz to 6kHz, it can support a wide range of exposure device requirements and contributes to improved exposure optical performance.

 
Katsumi Uranaka, President & CEO of GIGAPHOTON said, “The GT45A can provide optimal solutions to an extensive range of customer needs with state-of-the-art technology by applying the technologies cultivated and implemented through the development of light sources for ArF immersion. GIGAPHOTON will continue in the future to provide optimal solutions to meet customer needs and make further contributions to the semiconductor manufacturing industry.”

 

About GIGAPHOTON

Since it was founded in 2000, GIGAPHOTON has delivered valuable solutions to semiconductor manufacturers throughout the world as a laser supplier. In every stage from R&D to manufacture, sales, and maintenance services, GIGAPHOTON is committed to providing world-class support delivered from the perspective of everyday users. For more information please visit www.gigaphoton.com

 
Media contact:
GIGAPHOTON Inc
Corporate Planning Division
Kenji Takahisa
TEL: +81-285-37-6931
E-mail: web_info@gigaphoton.com[:ja]

2019年9月17日

最先端ArF液侵用光源技術を導入し、ユーザーのさらなるニーズに応える

   栃木県小山市; 2019年9月17日 —半導体リソグラフィ光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型リソグラフィ用光源、ArFドライGＴ45Aを8月に出荷したことを発表しました。

   最先端半導体製造プロセスでは、テクノロジー・ノード10/7nm（ナノ･メートル）という微細なプロセスが主流となり、今後もEUV光源の導入による7nm以下の更なる微細化が注目されています。その一方で、IoTの普及に伴い主に14-65nmといった技術的に成熟されたノードにおいて需要が高まり、新規投資による生産能力の拡大と、既存工場のアップグレードで対応する事が期待されています。従って、ドライ露光装置の更なる改善が要求され、露光装置における高生産性と高い稼働率（Availability）が不可欠となっています。

   GT45Aは、すでに生産現場で導入実績のある、以下のArF液侵用光源技術を適用させることで、ユーザーの幅広い期待に応える機能拡張性を備えます。

  • 主要モジュールの寿命を従来品比で最大50%向上させ、光源の更なる高稼働を実現し、装置稼動率を向上させます。
  • 最大で90Wまで高出力化することで、更なる生産性向上が可能です。
  • 4kHz~6kHzの繰り返し周波数が対応可能となり、露光機の要求に幅広く対応し、露光光学性能の向上に貢献します。

 
   ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「GT45AはArF液侵用光源の開発で培い実現してきた技術を適用することにより、お客様の幅広いニーズに対し最先端技術による最適なソリューションを提供することが可能となります。ギガフォトンは今後も継続して、お客様のニーズに応える最適な機能を提供し、半導体製造業界へさらなる貢献をしていきます。」

 

ギガフォトンについて

2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。

 
報道関係者向けの連絡窓口：
ギガフォトン株式会社
経営企画部
高久賢次
TEL: 0285-37-6931
Eメール: web_info@gigaphoton.com[:cs]

2019年9月17日

引入最先进的ArF浸没式光刻光源技术，以满足用户的进一步需求

栃木县小山市；2019年9月17日 — 半导体光刻光源制造商GIGAPHOTON株式会社（总部：栃木县小山市、董事长兼总经理：浦中克己）宣布，新型ArF干式光刻光源GT45A已于今年8月份上市。

在最先进的半导体制造工艺中，技术节点10/7nm(纳米)的微细工艺成为主流，今后通过引入EUV光源的面向7nm以下的微细化技术将备受瞩目。另一方面，随着IoT的普及，14-65nm等技术成熟节点的需求将增加，预计可通过新投资来扩大生产能力和升级现有工厂进行应对。因此，需要进一步改进干式曝光装置，同时必须保证曝光装置的高生产率和高运转率(Availability)。

GT45A通过应用生产现场已引入的下述ArF浸没式光刻光源技术，具备可以满足用户广泛需求的功能扩展性。

  • 主要模块的寿命比以往产品提高50%，实现光源的更高运转，可以提高装置运转率。
  • 最大输出功率达到90W，可以进一步提高生产率。
  • 支持4kHz~6kHz的重复频率，可以满足各种曝光机的要求，有助于提高曝光光学性能。

 
Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“GT45A通过应用在开发ArF浸没式光刻光源时培育的技术，可以针对广泛的客户需求，提供基于最先进技术的最佳解决方案。今后，GIGAPHOTON将继续提供满足客户需求的最佳功能，为半导体制造行业做出更大的贡献。”

 

GIGAPHOTON公司简介

GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：www.gigaphoton.com。

 
新闻媒体专用联系窗口：
GIGAPHOTON株式会社
经营企划部
高久贤次
电话：+81-285-37-6931
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2019年9月17日

引進最尖端ArF液浸用光源技術，滿足顧客進一步需求

栃木縣小山市；2019年9月17日 — 半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社（總公司: 栃木縣小山市；總裁：浦中克己），宣布新型ArF乾式光刻用光源GT45A，將在8月正式出貨。

在最先進的半導體製程中，目前是以技術節點10/7nm（奈米）的微細製程為主流，而今後是否能藉由引進EUV光源，將製造技術推進至7nm以下的極微細化領域，更是備受關注的焦點。另一方面，隨著IoT技術普及，以14-65nm為首，技術已完全成熟的各類半導體製品需求量也跟著水漲船高，如何進行新投資增加產能、以及提升現有工廠生產技術，也成為業界當前最重要的課題。因此，必須設法進一步改善乾式曝光裝置，增加曝光裝置的產能及運作率(Availability)。

GT45A可適用於在生產現場已有相當實績的ArF液浸用光源技術，並具備能滿足用戶各種需求的機能擴充性。

  • 主要模組的壽命與既有產品相比，最高約提升50%，大幅拉長光源運作時間，有助於裝置運作率。
  • 輸出功率最高可提升至90W，使產能進一步提升。
  • 可對應4kHz~6kHz的反覆頻率，適用曝光機的各種需求，提升曝光光學性能。

 
Gigaphoton總裁兼執行長浦中克己指出：「在將GT45A結合開發ArF液浸用光源所培育的技術後，便可因應客戶的各種需求，藉由最尖端的技術，提供最適合的解決方案。GIGAPHOTON今後也將繼續因應顧客需求，提供機能最合適的產品，為半導體製造業界做出更進一步的貢獻。」

 

GIGAPHOTON公司簡介

GIGAPHOTON公司成立於2000年，作為一家雷射器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請造訪：www.gigaphoton.com

 
新聞媒體專用聯絡窗口：
GIGAPHOTON株式會社
經營企劃部 高久賢次
電話： +81-285-37-6931
電子信箱： web_info@gigaphoton.com[:kr]

2019년 9월 17일

최첨단 ArF 액침용 광원 기술을 도입하여 사용자의 새로운 요구에 부응한다

토치기현 오야마시; 2019년 9월 17일 —반도체 리소그래피 광원 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)는 신형 ArF 드라이 리소그래피용 광원 GT45A를 8월에 출하했다고 발표했습니다.

최첨단 반도체 제조 프로세스에서는 테크놀로지 노드 10/7nm(나노미터)라는 미세한 프로세스가 주류가 되어, 앞으로도 EUV 광원 도입에 의한 7nm 이하의 진일보한 미세화가 주목받고 있습니다. 그런 한편으로 IoT의 보급에 따라 주로 14-65nm와 같은 기술적으로 성숙된 노드에서 수요가 높아져 신규 투자에 의한 생산 능력의 확대 및 기존 공장의 업그레이드를 통해 대응할 것으로 기대되고 있습니다. 따라서 드라이 노광 장치의 추가적인 개선이 요구되고, 노광 장치의 고생산성과 높은 가동률(Availability)이 필수 불가결합니다.

GT45A는 이미 생산 현장에서 도입 실적이 있는 다음과 같은 ArF 액침용 광원 기술을 적용시킴으로써 사용자의 폭넓은 기대에 부응하는 기능 확장성을 갖춥니다.

  • 주요 모듈의 수명을 기존 제품 대비 최대 50% 향상시키고, 광원의 더욱 높은 가동을 실현하여 장치 가동률을 향상시킬 수 있습니다.
  • 최대 90W까지 고출력화함으로써 한층 더 생산성 향상이 가능합니다.
  • 4kHz~6kHz의 반복 주파수를 대응 가능하게 함으로써 노광기의 요구에 폭넓게 대응하여 노광 광학 성능의 향상에 공헌합니다.

 
기가포톤 대표이사 사장 겸 CEO인 우라나카 카츠미 씨는 이렇게 코멘트하고 있습니다. ‘GT45A는 ArF 엑침용 광원의 개발을 통해 축적하고 실현해 온 기술을 적용함으로써 고객의 폭넓은 요구에 대해 최첨단 기술을 활용한 최적의 솔루션을 제공할 수 있게 됩니다. 기가포톤은 앞으로도 계속해서 고객님의 요구에 부응하는 최적의 기능을 제공하여 반도체 제조업계에 더욱 더 공헌해 나겠습니다.’

 

기가포톤(Gigaphoton) 개요

기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.

 
언론 연락처
기가포톤주식회사
경영기획부
타카히사 켄지
+81-285-37-6931
web_info@gigaphoton.com[:]