机加工应用方向的准分子激光器“G300K”将用于IC封装技术研究

栃木县小山市； 2022年2月16日 – 半导体光刻光源主要制造商Gigaphoton株式会社（总部: 栃木县小山市、董事长兼总经理: 浦中克己）宣布，机加工应用方向的KrF准分子激光器“G300K”已被台湾国家实验研究院的项目采用，并于12/27交付给国立成功大学。

国立成功大学是台湾国家实验研究院（NARLabos）的参与机构，作为一项国家项目，目前正在开展使用分子激光器的IC封装技术研究。此次采用的Gigaphoton的KrF激光器“G300K”根据以微烧蚀为代表的“加工优化”理念开发而成，被认为最适合此项研究，并得以实现。

Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“在半导体光刻光源以外的其他领域应用的GIGANEX系列G300K，系根据Gigaphoton多年积累的可实现99%以上的高运转率、高输出的光刻光源技术开发而成，确信它会为此次项目做出贡献。我们希望GIGANEX系列能够为广大客户提供解决方案，并将继续应用于新的应用领域，为新一代产业的发展作出贡献。”

产品 G300K

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