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应对半导体急速增长需求的先端技术对产能提升



2021年10月26日



枥木县小山市：2021年10月26日，半导体光刻光源制造商<a href="https://www.gigaphoton.com/cs/">Gigaphoton株式会社</a>（总部：枥木县小山市取缔役社长：浦中克己）宣布，最先进的ArF浸液光刻光源“GT66A”在世界半导体制造商中正式投入量产出货。



最近，数位设备和云设备在全球范围内迅速增多，用于这些设备的半导体需求也在急剧增加。并且，在企业端DX的渗透、碳中和的EV增产、可再生能源的转型等社会基础建设中半导体发挥着核心作用。特别是自动驾驶以及兼具高速运算·低功耗的高端设备的市场需求增加更加剧半导体的需求。



GT66A既可以对应此类高端设备所需5nm半导体制程，也可应对下世代的半导体制程生产。



另外，GT66A通过降低散斑对比度（30%），降低了布局与光阻曝光图像的EPE偏差，从而抑制与图像细微粗糙度相关的LER、以及由于粗糙度产生的图像宽度偏差相关的LWR，从而实现成品率的提高。另外，由于导入了高耐久零件设备的维护周期延长了30%，从而提高了设备的使用率以及提高生产效率。



GIGAPHOTON代表取缔役兼CEO浦中克己进行了如下阐述。为了实现先端半导体的稳定·高效率的生产、特别是最先端的生产制程的生产性能，GT66A应运而生。GIGAPHOTON会持续致力于半导体工厂的市场性能最大化，并持续不懈地努力。”



关于GIGAPHOTON GIGAPHOTON作为曝光领域的DUV光源研发与制造的领先企业，与制造，从公司成立开始持续向全球半导体制造商提供使用先端技术的诸多解决方案。并且也致力于EUV光源的研发。GIGAPHOTON不仅仅拥有强大的研究开发团队，在制造、销售、维护服务也拥有知识丰富的专业团队，我们会继续从客户视角出发，持续的提供行业最高水平的服务。 详情请浏览<a href="https://www.gigaphoton.com/cs/">https://www.gigaphoton.com/cs/</a>。



新闻媒体专用联系窗口： GIGAPHOTON株式会社 经营企划部 大石宪司 邮箱：<a href="mailto:web_info@gigaphoton.com">web_info@gigaphoton.com</a>

最先端ArF浸液光刻光源“GT66A”正式量产出货

<h5 class="wp-block-heading">以两倍于先前的产能满足大幅增加的市场需求</h5>



2021年9月15日



栃木县小山市；2021年9月15日、半导体光刻光源制造商<a href="https://gigaphoton.com">Gigaphoton株式会社</a>（总部: 栃木县小山市、董事长兼总经理: 浦中克己)表示，2023年准分子激光光源的产能将提高两倍。



近年来，全球的半导体需求大幅增加，各国主要半导体制造商都在加快对半导体制造装置的投资。半导体光刻光源制造商Gigaphoton也认为市场需求在不断增加，预计未来需求也将继续稳定。



为了满足这种需求的增长，Gigaphoton将于2022年4月建造一座新的办公楼，以构建更稳定的供给体制，最大限度地提高生产设备的利用率、提升并优化生产工艺的效率，并将产能提高两倍。



Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“随着全球对半导体需求的不断增长，本公司也将尽最大努力满足客户的需求。今年，我们将充分利用现有资源进行生产，同时优化生产计划和交货期。明年新办公楼即将落成，届时将形成更加稳定的供应体制。作为在半导体制造中不可或缺的光刻光源制造商，今后我们也将通过支持产品的供给及运营，继续负责任地为产业界做出贡献。”



GIGAPHOTON公司简介



GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家半导体光刻光源的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：<a href="https://www.gigaphoton.com/cs/">https://www.gigaphoton.com/cs/</a>。







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Gigaphoton增强准分子激光光源的生产能力

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