ArF Immersion

ArF Dry

Data Products


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500.png" alt="G60K" class="wp-image-7600" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">可达到以往产品的150%高输出且满足未来进一步输出要求的KrF光刻用光源</h2>



<p>KrF光刻光源G60K以继承Gigaphoton多年技术和积累经验的KrF光源技术为基础，支持超过300片/h的光刻机处理速度，通过输出功率达到以往产品的150%，并将模块寿命延长到最高200%，为改善可用性提供帮助。G60K还兼具扩展性，通过新开发的电源和模块来支持未来高输出、高频率等性能改进，满足对未来KrF曝光技术的要求。还标配无氦技术，有助于减少气体的消耗量。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading">主要特点</h3>



<h4 class="wp-block-heading">支持300片/h扫描型光刻机处理量所需的高输出</h4>



<p>通过导入新型电源单元，可以实现60W输出功率，达到以往产品的150%。由此，厚膜光刻胶等低灵敏度光刻胶也能抑制处理量损耗，并有助于进一步提高生产性。</p>



<h4 class="wp-block-heading">继承已有实绩且支持99.9%以上的可用性技术</h4>



<p>以在现场高可用性和性能稳定性方面备受客户好评的机型、G41K技术为基础，实现在所有输出范围高达99.9%以上的可用性。还通过投入新技术，将模块寿命延长至200%，为提高可用性提供帮助。</p>



<h4 class="wp-block-heading">提供可持续发展解决方案</h4>



<p>该光源标配无氦技术，除可以防备稀有气体供给不足的风险外，还能通过气体消耗量削减技术实现更环保。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading">主要规格</h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>振荡波长</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>输出</td><td>40W &#8211; 60W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10mJ &#8211; 15mJ</td></tr><tr><td>振荡频率</td><td>4000Hz</td></tr><tr><td>特点</td><td>Continuous Reliability Improvement (CRI) Package<br>可持续发展解决方案<br>・Helium Free Operation<br>・TGM Gas Management</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>


High Power KrF

G60K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500.png" alt="G300K" class="wp-image-7601" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="300" height="29" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2016/03/GIGANEX2_sm.png" alt="" class="wp-image-4555"/></figure></div>



<p> </p>



<h2 class="wp-block-heading" id="giganex系列新产品-下一代微细加工用300w-krf激光器-高输出-高可靠性且可减少coo的机型">GIGANEX系列新产品、下一代微细加工用300W KrF激光器。高输出、高可靠性且可减少COO的机型</h2>



<p>KrF激光器“G300K”是加入GIGANEX产品阵容的一款新机型，它将微细等“加工优化”作为理念，在保持高输出、99%以上高开工率的同时，实现了客户ROI的最大化的型号。“G300K”采用累计出货量达900多台的本公司半导体光刻用KrF光源G41K作为基本平台，新开发并搭载了最适合高输出的电源、激光腔室。从而为客户在半导体制造后端工序中下一代微细加工工序，通过提高生产性及减少COO以实现ROI的最大化提供帮助。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特点">主要特点</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="高重复频率-高输出功率"><strong><strong>高重复频率、高输出功率</strong></strong></h4>



<p>作为加工用KrF激光器，“G300K”实现了唯一的4000Hz高重复频率、300W高输出功率。可以在传统UV激光器无法实现的区域进行各种微细烧蚀加工。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="高开工率"><strong><strong>高开工率</strong></strong></h4>



<p>作为半导体光刻KrF光源，“G300K”保持着具有900多台出货量的G41K的可靠性，实现超过99%的高开工率。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="长寿命"><strong><strong>长寿命</strong></strong></h4>



<p>具有可承受半导体制造光源所培养的生产性的模块寿命，同时拥有较长的维护周期，从而为客户提高成品率并降低维护成本提供帮助。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading" id="主要规格"><strong>主要规格</strong></h3>


<figure class="wp-block-table">
<table class="has-fixed-layout">
<thead>
<tr>
<th>规格项目</th>
<th colspan="2"><strong>值</strong><sup>*</sup></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td>振荡波长</td>
<td colspan="2">248 nm</td>
</tr>
<tr>
<td>平均输出</td>
<td>75W</td>
<td>300W</td>
</tr>
<tr>
<td>脉冲能量</td>
<td>75mJ</td>
<td>75mJ</td>
</tr>
<tr>
<td>振荡频率</td>
<td>1000Hz</td>
<td>4000Hz</td>
</tr>
<tr>
<td>用途</td>
<td colspan="2">下一代微细烧蚀加工</td>
</tr>
</tbody>
</table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>

高输出KrF

G300K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img decoding="async" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G45K_500.png" alt="G45K" class="wp-image-7620"/></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading" id="支持50w的4khz-krf准分子激光器">支持50W的4kHz KrF准分子激光器</h2>



<p>4kHz KrF准分子激光器系列的第3代机型G45K，是一款旨在提高最尖端存储芯片的生产效率、功率最高可达50W的高功率机型。该机型通过延长模块的使用寿命和绿色技术，可以同时实现“提高生产率”和“减轻环境负荷”两大目标。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="特色">特色</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="高输出">高输出</h4>



<p>输出功率高达50W，同比传统型号提高了25%。有助于提高最尖端存储芯片的生产效率。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="延长模块的使用寿命">延长模块的使用寿命</h4>



<p>通过将装置中主要模块的使用寿命延长20%，减少了维护停机的时间。同时还有助于提高生产率。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="绿色技术">绿色技术</h4>



<p>“无氦气”作为标配装备，可以确保装置运行期间氦气的使用量为零，并通过连接氖气回收系统“hTGM”，有助于降低运营成本和减轻环境负荷。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要规格">主要规格</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>40 W – 50 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0 &#8211; 12.5 mJ</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>4,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（FWHM）</td><td>0.35 pm</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95,）</td><td>1.1 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G45K

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500.png" alt="" class="wp-image-7648" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>


<h2 class="wp-block-heading" id="支持-130nm-以下技术节点的-4-khz-arf-准分子激光机">支持 130nm 以下技术节点的 4 kHz KrF 准分子激光机</h2>



<p>为 4kHz KrF 准分子激光机系列第 2 代机型 G41K 标准加载磁浮激射共振腔、高效率 LNM、MM 的机型。<br>高效率得到进一步提升，达到 40W 的输出功率。支持需要更高用量的先进曝光制作程序。光学模块达到 300亿脉冲长使用寿命化（与本公司 G41K 机种相比约提升 50 %）。<br>G41K 可藉由现场更换模块升级为 G41K-1H。</p>



<hr class="wp-block-separator has-css-opacity"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list">
<li>效率较 G41K 更高，达到 40W 高输出功率／超低CoO</li>



<li>TGM 软件导入，可延长气体使用寿命达 100%</li>



<li>市场上运转的激射装置数以百计，具有压倒性高可靠度</li>
</ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要规格"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>40 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>4,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（FWHM）</td><td>0.35 pm</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95）</td><td>1.1 pm</td></tr></tbody></table><figcaption class="wp-element-caption">(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G41K-1H


<h2 class="wp-block-heading" id="支援-130nm-以下技術節點的-4-khz-arf-準分子雷射裝置">支持 0.18μm 设计规则的2 kHz ArF 准分子激光机</h2>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>进一步提升饱受好评的 G20K 能量安定性</li><li>改良窄带宽化光学系统，实现支持 0.13 µm 技术节点光刻制程的超缩带宽性能：光谱半值 0.5 pm</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>20 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>2,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（FWHM）</td><td>0.5 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>1.4 pm</td></tr><tr><td>累计能量安定性</td><td>0.35 %</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G21K


<h2 class="wp-block-heading" id="支援-130nm-以下技術節點的-4-khz-arf-準分子雷射裝置">支持 0.18μm 设计规则的2 kHz ArF 准分子激光机</h2>



<p>G20K 以能量安定性 ±0.4 %、半值振幅 0.6 pm 以下的狭隘光谱线宽，支持 0.18 μm 节点光刻的高分辨率。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>发射频率由 G10K 的 1000 Hz 改进至 2000 Hz，达到高产量需求</li><li>大幅提升激射发射稳定性与模块耐久性，达到进一步减低 CoO（每次脉冲的运行成本）的目的</li><li>包装箱更加精致，与 G10K 相比，安装所需面积缩小 14 %</li><li>全新设计的固态脉冲电源模块，减少 20 % 耗电量</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>20 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>2,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（FWHM）</td><td>0.6 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>2.0 pm</td></tr><tr><td>累计能量安定性</td><td>0.4 %</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G20K


<h2 class="wp-block-heading" id="支持-130nm-以下技术节点的-4-khz-arf-准分子激光机">支持 0.25 μm～0.18 μm 设计规则的 1 kHz 准分子激光机</h2>



<p>准分子激光机因使用氟气、高压放电、深紫外光等化学反应强烈的要素，如何同时实现稳定性与耐久性是最大的技术课题。而除了上述功能外，曝光用准分子激光机更要求出光的单色性及输出能量均衡性。</p>



<p>G10K 是首度解决上述难题的准分子激光机，自 1997 年推出以来，以其划时代性稳定运转与性能广受光刻光源市场的好评，目前仍活跃于生产现场。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>稳定激发与高度耐久性，达到高劳动效率与经济性</li><li>以独家 RF 预电离方式、全新开发的高电压脉冲电源，大幅改善发射稳定性并大幅提升耐久性能</li><li>不但让各结构模块性能游刃有余，并以贯彻所有零件、制程的质量保证体制确保产品高度可靠性</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要规格"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>10 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>1,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（FWHM）</td><td>0.6 pm</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95）</td><td>2.0 pm</td></tr><tr><td>累计能量安定性</td><td>0.5 %</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G60KG60K

可达到以往产品的150%高输出且满足未来进一步输出要求的KrF光刻用光源

主要特点

支持300片/h扫描型光刻机处理量所需的高输出

继承已有实绩且支持99.9%以上的可用性技术

提供可持续发展解决方案

主要规格

Other KrF

G300K

G45K

G41K-1H

G21K

G20K

G10K

规格项目	值^*
振荡波长	248 nm
输出	40W – 60W
脉冲能量	10mJ – 15mJ
振荡频率	4000Hz
特点	Continuous Reliability Improvement (CRI) Package 可持续发展解决方案・Helium Free Operation ・TGM Gas Management