15年ぶりのフルモデルチェンジで1.5倍の高出力を実現

栃木県小山市；2020年11月4日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型KrF露光装置用光源「G60K」を10月29日に出荷したと発表しました。

新型KrF用光源「G60K」は、約15年ぶりのフルモデルチェンジと新型電源ユニットの導入により、従来比1.5倍の出力60Wを可能にしました。これにより、スキャナーの生産性を最大150%改善することが期待できます。また、ボディは拡張性を兼ね備えた新型プラットフォームを採用し、将来のKrFスキャナーの生産性拡張に対応するための光源の性能向上にも対応しています。

従来のKrF光源は、高出力になるとスループットは上がるものの、モジュール交換増加によるダウンタイムが増え、結果アベイラビリティが下がるというジレンマがありました。「G60K」はその新技術により、ダウンタイムを増やすことなく、高出力・高アベイラビリティの両立に成功しています。また、高ドーズレイヤーにおける最大スループットの実現も可能となっています。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「ギガフォトンのKrF光源は我々の技術と経験が詰まった製品であり、お客様から長きに渡り高い評価を得ています。今回15年ぶりでフルモデルチェンジしたG60Kは、フィールドで高稼働し、お客様の生産性を一層高めると確信しています。ギガフォトンは引き続き、生産性を最大化する製品・サービスを提供していきます。」

ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンは光源サプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはhttps://gigaphoton.comをご覧ください。

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