栃木県小山市；2024年2月16日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、2024年2月25日（日）から29日（木）（アメリカ時間）にかけてカリフォルニア州サンノゼにて開催される、半導体露光技術に関する世界最大の学会「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2024」に参加し、論文発表を行います。
ギガフォトンは、最新ArF液浸製品のGT80A開発、サステナビリティ関連技術、そしてDUV光源技術の稼働率改善に関する発表を行います。また、検査用EUV光源および先端パッケージ向けDUV光源に関する技術の最新状況についても発表いたします。
（上記発表に関するお問い合わせについては、ギガフォトンまでご連絡ください。）
・ギガフォトン SPIEプレゼンテーション発表
| 1) Improved ArFi scanner throughput and process yield through a next generation DUV light source featuring high-repetition rate and enhanced speckle contrast [Paper#: 12953-6] |
| 2) Enhancing M2 beam quality factor of in high power KrF laser for glass micro-via fabrication in advanced packaging [Paper#: 12956-17] |
・ポスター発表
| 3) EPE Enhancement by implementing with E95% tuning functionality and resist optimization [Paper#: 12953-52] |
| 4) Enhancing wafer productivity through increased repetition rate to 6.75khz with GT80A as ArF immersion light source [Paper#: 12953-54] |
| 5) Maximizing availability by enhancing operational efficiency and implementing sophisticated maintenance strategies in complex ArFi light source [Paper#: 12953-55] |
| 6) Development progress of Gigaphoton’s LPP EUV light source for inspection systems [Paper#: 12953-62] |
| 報道関係者向けの連絡窓口： ギガフォトン株式会社 経営企画部 大石憲司 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com |