最先端ノード量産での高い生産性をサポート

栃木県小山市；2024年3月27日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型ArF液浸露光装置用光源「GT80A」を出荷したと発表しました。

最先端デバイス製造においては、微細化と共に高い生産性が求められています。これらの最先端デバイスでは、ウエハに転写される露光パターン、特にEPEに対する要求が求められると同時に、高い生産性を両立する必要があります。

その中で、光源に対して、EPEに直接的影響を及ぼすCD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)低減を実現することにより、量産現場でのイールド向上を実現すると共に、さらなる高生産性を提供することが求められます。

新型ArF液浸光源「GT80A」は、新開発モジュールにより、発振周波数を12.5%向上させることに成功しました。これにより、スペックルコントラストをGT65A比で36％低減し、LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)をさらに低減することに貢献します。プロセスイールドのさらなる改善を実現すると同時に、最先端ノード量産での高い生産性をサポートします。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「GT80Aは、最先端半導体の安定的で歩留まりのよい生産をゴールに、特に最先端のプロセスノードの生産性向上のため市場に投入されました。ギガフォトンは、半導体市場のリソグラフィにおける更なるイノベーションのため、今後も活動し続けます。」

報道関係者向けの連絡窓口：　 ギガフォトン株式会社 経営企画部 大石憲司 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com