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<p>栃木県小山市；2023年9月29日、半導体リソグラフィ用光源メーカーである<a href="http://gigaphoton.com/">ギガフォトン株式会社</a>（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、2023年12月13日（水）から15日（金）にかけて東京ビッグサイトにて開催される、「Advanced Packaging and Chiplet Summit 2023」に出展いたします。</p>



<p>ギガフォトンからは、最新の試験結果も含めた、当社の微細アブレーション加工用製品の紹介を行います。</p>



<p>皆様のお越しをお待ちしております。</p>



<p class="has-text-align-center">記</p>



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td>イベント名</td><td>Advanced Packaging and Chiplet Summit 2023</td></tr><tr><td>イベントURL</td><td><a href="https://www.semiconjapan.org/jp/apcs" target="_blank" rel="noreferrer noopener">https://www.semiconjapan.org/jp/apcs</a></td></tr><tr><td>開催期間</td><td>2023年12月13日（水）～15日（金）</td></tr><tr><td>会場</td><td>東京ビッグサイト（東京都江東区有明3-11-1）</td></tr><tr><td>出展ブースNo.</td><td>2748</td></tr></tbody></table></figure>



<p class="has-text-align-right">以上</p>



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td>報道関係者向けの連絡窓口：　<br>ギガフォトン株式会社<br>経営企画部<br>大石憲司<br>TEL: 0285-37-6931<br>Eメール: <a href="mailto:web_info@gigaphoton.com">web_info@gigaphoton.com</a></td></tr></tbody></table></figure>


ギガフォトン、Advanced Packaging and Chiplet Summit 2023に出展


<p>　栃木県小山市；2023年6月26日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、6月29日(木)から7月1日(土)にかけて中国・上海にて開催されるSemicon China 2023に出展いたします。</p>



<p>　皆様のお越しをお待ちしております。</p>



<p class="has-text-align-center">記</p>



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td>イベント名</td><td>SEMICON CHINA 2023</td></tr><tr><td>イベントURL</td><td><a href="http://www.semiconchina.org/">http://www.semiconchina.org/</a></td></tr><tr><td>開催期間</td><td>2023年6月29日(水)～7月1日(土)</td></tr><tr><td>会場</td><td>上海新国際博覧中心（Shanghai new International Expo Centre）</td></tr><tr><td>出展ブースNo.</td><td>E1会場 E1549ブース</td></tr></tbody></table></figure>



<p class="has-text-align-right">以上</p>



<p></p>



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td>報道関係者向けの連絡窓口：　<br>ギガフォトン株式会社<br>経営企画部<br>大石憲司<br>TEL: 0285-37-6931<br>Eメール:&nbsp;<a href="mailto:web_info@gigaphoton.com">web_info@gigaphoton.com</a></td></tr></tbody></table></figure>


ギガフォトン、Semicon China 2023に出展


<p>栃木県小山市；2023年2月17日、半導体リソグラフィ用光源メーカーである<a href="http://gigaphoton.com/">ギガフォトン株式会社</a>（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、2023年2月26日（日）から3月2日（木）（アメリカ時間）にかけてカリフォルニア州サンノゼにて開催される、半導体露光技術に関する世界最大の学会「<a href="https://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography-and-patterning">SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023</a>」において、次の論文発表を行います。</p>



<p>弊社では、DUVの露光技術における歩留まり改善やサステナビリティ推進に関するトピックス、およびEUVに関する研究開発進捗状況について紹介します。</p>



<p>（論文ペーパーのコピーが必要な場合には、ギガフォトンまでご連絡ください。）</p>



<p class="has-text-align-center">記</p>



<p>・ギガフォトン　SPIEプレゼンテーション発表</p>



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td><strong>先端液浸露光用光源によるEPE改善と生産性改善技術　 </strong>[Paper#: 12494-44]</td></tr><tr><td><strong>プラズマ特性から想定される半導体製造におけるLPP-EUV光源の将来像</strong> [Paper#: 12494-45]</td></tr></tbody></table></figure>



<p>・ポスター発表</p>



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td><strong>LPP-EUV光源の主要コンポーネント関発状況　</strong>[Paper#: 12494-51]</td></tr><tr><td><strong>エキシマ光源性能の機械学習シミュレーションを通した装置メンテナンス機能の開発　 </strong>[Paper#: 12496-101]</td></tr><tr><td><strong>先端ArF液浸露光用光源「GT66A」による装置稼働率最大化を通したサステナビリティ貢献 </strong>[Paper#: 12494-60]</td></tr></tbody></table></figure>



<p class="has-text-align-right">以上</p>



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td>報道関係者向けの連絡窓口：　<br>ギガフォトン株式会社<br>経営企画部<br>大石憲司<br>TEL: 0285-37-6931<br>Eメール: <a href="mailto:web_info@gigaphoton.com">web_info@gigaphoton.com</a></td></tr></tbody></table></figure>


ギガフォトン、半導体露光技術最大の学会「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023」にて論文発表


<p>ギガフォトンは、2月22日(日)～2月26日(木)（アメリカ時間）に開催される「<a href="https://spie.org/search?term=gigaphoton&amp;pageSize=25&amp;pagesVisited=1&amp;sortBy=Relevance&amp;eventName=Advanced_Lithography">SPIE Advanced Lithography 2021</a>」（web開催）において、次の論文発表を行います。</p>



<p>この学会は、先端半導体の製造を担うリソグラフィ技術に関する、世界最大のイベントです。</p>



<p>弊社では、回路形成から基盤加工まで、多岐にわたる先端光源技術により生産歩留まりや稼働率を大きく改善するトピックスを以下の8件紹介する予定です。</p>



<ul class="wp-block-list"><li><strong>プレゼンテーション発表</strong></li></ul>



<p>February 25, 2021 • 10:50 AM PST | Session 11: EUV Source [Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII]<br><strong>Update of &gt;300W High Power LPP-EUV Source Challenge III for Semiconductor HVM &nbsp;</strong>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;<br>Author: Hakaru Mizoguchi; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11609-48]</p>



<p>February 24, 2021 • 9:40 AM PST | Session 4: Lithography Equipment and New Applications [Optical Lithography XXXIV]<br><strong>Latest ArF light source with speckle reduction technology for immersion lithography improving chip yield</strong>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;<br>Author: Hirotaka Miyamoto; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11613-11]</p>



<p>February 25, 2021 • 8:50 AM PST | Session 8: Novel Optical and ebeam/ion [Novel Patterning Technologies 2021]<br><strong>Processability of organic material for semiconductor packaging by 248 nm excimer laser</strong>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;<br>Author: Akira Suwa; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11610-27]</p>



<ul class="wp-block-list"><li>ポスター発表</li></ul>



<p>February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV]<br><strong>ArF lightsource “GT66A” for next-generation immersion lithography enhancing EPE and CD performance </strong>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;<br>Author: Tommy Oga; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11613-30]</p>



<p>February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV]<br><strong>Study of further CD and OL performance improvement by introducing new E95% spectral bandwidth and Wavelength functionality for ArFi lithography lightsource</strong>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;<br>Author: Tommy Oga; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11611-92]</p>



<p>February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV]<br><strong>Advanced spectral engineering: A new way of process aware laser spectra optimization for optical lithography&nbsp;&nbsp;</strong><br>Author: Koichi Fujii; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11613-33]</p>



<p>February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV]<br><strong>Lithocell availability improvement through light source maintenance cycle improvement and optimization and its availability impact analysis for cutting-edge ArFi Light source</strong>&nbsp;&nbsp;&nbsp;<br>Author: Takehiko Tomonaga; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11613-29]</p>



<p>February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII]<br><strong>The development progress of the High Power LPP-EUV light source using a magnetic field</strong><br>Author: Hirokazu Hosoda; Gigaphoton Inc. (Japan)<br>[Paper#: 11609-52]</p>


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