GT80A

リソグラフィ性能を牽引する進化した液浸露光光源

最先端デバイス製造において微細化と共に高い生産性が求められています。これらの最先端デバイスでは、ウエハに転写される露光パターン、特にEPE(Edge Placement Error)に対する要求が求められると同時に高い生産性を両立する必要があります。
その中で、光源に対して、EPEに直接的影響を及ぼすCD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)低減を実現することにより量産現場でのイールド向上を実現すると共に、さらなる高生産性を提供することが求められます。

新型液浸露光用光源「GT80A」は、新開発モジュールにより発振周波数を12.5%向上させることに成功しました。これにより、スペックルコントラストをGT65A比で36%低減し、LWR/CDUをさらに低減することに貢献します。プロセスイールドのさらなる改善を実現すると同時に、最先端ノード量産での高い生産性をサポートします。


主な特徴

最先端ノードでのイールド改善

発振周波数の向上と光学モジュール適用により、スペックルコトントラストを36%低減し、LER/LWRの改善を実現しました。これにより、リソグラフィ最先端ノードの量産において、イールドの改善を提供します。

生産性の向上

新開発モジュールにより、発振周波数の向上を実現しました、最先端ノード量産の生産性向上に貢献します。

サステナビリティソリューションの提供

ヘリウムフリー技術の標準装備で、希ガスの供給不足リスクに備えるほか、ユーティリティの消費量削減技術により環境にも配慮した光源です。 

主な仕様

項目*
発振波長193 nm
出力60 – 90 W
発振周波数6,750 Hz
スペクトル幅
(95 %エネルギー積算-E95)
300 +/- 1.5 fm wafer average
特徴EPE低減ソリューション
発振周波数の向上
サステナビリティソリューション
(*) 各仕様値は代表値です