진화적인 몰입형 리소그라피 라이트소스가 리소그라피 성능을 높입니다
최첨단 기기 제조에서는 스케일링과 함께 고생산성이 필요합니다. 최첨단 기기는 특히 웨이퍼로 전달되는 리소그라피 패턴의 요구사항과 EPE (Edge Placement Error) 및 고생산성을 충족해야 합니다. 라이트소스로, EPE에 직접적으로 영향을 주는 CD LER/LWR (Critical Dimension Line Edge Roughness/Line Width Roughness)을 감소시킴으로써, GT80A는 대량 생산 현장에서 향상된 수율을 제공합니다.
신개발된 모듈로 인해 새로운 몰입형 리소그라피 라이트소스 “GT80A”는 반복 속도를 성공적으로 12.5% 향상시켰습니다. 이로 인해 GT65와 비교하여 스펙클 대비 36%의 감소가 이루어지며, LWR/CDU (Critical Dimension Uniformity)도 더욱 감소되었습니다. 이러한 진보는 프로세스 수율을 더욱 개선하고, 최첨단 노드의 생산에서 고생산성을 지원합니다.
주요 특징
최첨단 노드와 함께 개선된 수율
GT80A는 반복 속도를 향상시키고 새로운 광학 모듈을 적용함으로써 스펙클 대비를 36% 감소시키고 LER/LWR을 개선했습니다. 이러한 진보는 리소그라피에서 최첨단 노드의 생산에서 개선된 수율을 가능하게 합니다.
높은 가용성
신개발된 모듈을 통합함으로써 GT80A는 반복 속도를 향상시켰습니다. 이는 최첨단 노드의 생산에서 더 높은 수율에 기여합니다.
지속 가능한 솔루션 제공
표준으로 헬륨 무료 기술을 탑재한 GT80A는 희귀 가스 공급 부족의 위험을 완화하고, 유틸리티의 에너지 소비를 줄이기 위한 기술을 사용하는 환경 친화적인 라이트소스입니다.
일반 사양
항목 | 값* |
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파장 | 193 nm |
출력 | 60 – 90 W |
반복 속도 | 6,750 Hz |
스펙트럼 폭 (95% 적분 에너지 – E95) | 300 +/- 1.5 fm wafer average |
특징 | EPE 감소 솔루션 반복 속도 개선 지속 가능한 솔루션 |
(*) 사양은 대표값입니다.