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<h4 class="wp-block-heading" id="半導体メーカーのソフトウェア解析に関する調査により-問題解決の糸口を掴む">半導体メーカーのソフトウェア解析に関する調査により、問題解決の糸口を掴む</h4>



2022年1月7日



栃木県小山市 &#8211; 2022年1月7日 &#8211; 半導体リソグラフィ用光源メーカーのギガフォトン株式会社は、半導体製造における各装置のデータ解析に関する調査を行い、この度その解析結果を公開しました。（<a href="https://www2.fabscape.net/fab-analytics-survey-report">調査結果はこちらから</a>）



半導体製造業界では、チップサイズ縮小を始めとする様々な技術革新が進む中で、稼働率と歩留まりの向上は依然として大きな課題となっています。また、世界的な半導体需要の増加に対する生産材料の供給不足も深刻です。このように重なる課題に直面する半導体メーカーにとって、データ解析は、生産性効率化のために必要不可欠なものとなっています。



しかしながら<a href="https://www2.fabscape.net/fab-analytics-survey-report">ギガフォトンの調査</a>によると、半導体メーカーが行っているデータ解析において、まだ開拓されていない未知の領域があることが判明しました。調査レポートは、その未開拓な領域にこそ、半導体業界が抱えている問題を解決する糸口が存在するのではないかと述べています。



ギガフォトンDX推進室長の峰岸裕司氏は次のように語っています。「半導体製造プロセスが複雑化し、各社固有の高度な装置データ解析の要望が高まっています。また、新型コロナウイルス感染拡大以降、生産拡大へのニーズはさらに高まるでしょう。しかし、既存のデータ解析ソリューションだけでは各社の子細な要望に応えきれないのが現実です。つまり稼働率と歩留まり向上への課題解決のニーズは高まっているにもかかわらず、現状のようにメーカー毎に分断されているソフト環境のままでは効率的な問題解決は難しいのです。」



ギガフォトンは半導体生産に関係する企業276社に、広く統計調査を実施しました。その結果、73%の企業が複数の装置分析ソリューションを組み合わせて使用せざるを得ず、ソフトウェアへの大きな投資をもってしても、稼働時間と生産性を向上するために必要な効率的で高度な分析を実施できていない、と回答しました。



また、改善項目として使いやすさの向上、情報分析の高度化、そして機能の統合が挙げられました。「調査の結果、半導体製造業界の分析には大きな空白があり、単一のソフトウェアベンダーでは、これを埋めきれないことが分りました。これは世界の半導体産業の問題であり、今後業界全体のソリューションが必要になることを示唆しています。」（米国業界コンサルタント会社MAX Group副社長 Mario Faria氏）



この調査から明確になったのは、半導体製造業では、よりスマートで高精度な分析が急務であるということです。ギガフォトンの代表取締役社長兼CEO浦中克己氏はこう述べています。「我々は、今後、優れた情報分析機能を搭載したソリューションを提供し、ソフトウェアの面からもお客様の生産性向上に貢献していきます。」



*調査レポートは<a href="https://fabscape.net/survey">https://fabscape.net/survey</a> から入手できます。



*詳細は、<a href="https://www.fabscape.net">https://www.fabscape.net</a> をご覧ください。



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><tbody><tr><td>ギガフォトンについて ギガフォトンは、半導体リソグラフィ用DUV光源の開発・製造のリーディングカンパニーとして、設立当初から最先端技術を駆使した多くのソリューションを世界の半導体メーカーへ提供しています。また、EUV光源およびリソグラフィ以外の分野に向けたDUV光源の開発にも取り組んでいます。ギガフォトンは研究開発から製造・販売・保守サービスまで、豊富な知識と経験を持った専門家集団として、常にユーザーの目線に立った業界最高水準のサポートを提供し続けていきます。 詳細はwww.gigaphoton.com　をご覧ください。 報道関係者向けの連絡窓口： ギガフォトン株式会社 峰岸裕司 web_info@gigaphoton.com</td></tr></tbody></table></figure>

ギガフォトン、チップ不足問題解決に向けた調査を実施

半導体需要の急増に対応する最新技術で生産性を向上



2021年10月27日



栃木県小山市：2021年10月27日、半導体リソグラフィ用光源メーカである<a href="https://www.gigaphoton.com/ja/">ギガフォトン株式会社</a>（本社：栃木県小山市代表取締役：浦中克己）は、最先端ArF液浸リソグラフィ光源「GT66A」が、世界の半導体メーカにて本格的に稼働していると発表しました。



昨今、デジタル機器やクラウド設備が世界規模で急速に増加し、これらに使われる半導体の需要も激増しています。さらに、企業におけるDXの浸透、カーボンニュートラル社会に向けたEVの増産、再生可能エネルギーへのシフトチェンジ等、社会インフラの中枢を半導体が担う中、その需要はさらに加速しています。特に自動運転やハイパフォーマンスサーバーのように、高速計算と低消費電力を併せ持つハイエンドデバイス需要の増加はこの状況に拍車をかけています。



GT66Aは、そのようなハイエンドデバイス用半導体が必要とする5nmノード、および次世代のノードの製造にも対応しているモデルとなっています。



またGT66Aは、スペックルコントラストを低減(30%)することで、レイアウトとレジスト露光のパターンがずれるEPEの低減をしました。それにより、壁面の微細パターンの凹凸サイズを表すLERや、凹凸で生じるパターン幅のバラつきを示すLWRを抑え、イールド（歩留まり）の向上が期待できます。加えて高耐久性部品の導入により、メンテナンスサイクルを30%延長したことで、装置のアベイラビリティが向上し、高度な生産性の実現も可能となっています。



ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「GT66Aは、最先端半導体の安定的で歩留まりのよい生産をゴールに、特に最先端のプロセスノードの生産性向上のため市場に投入されました。ギガフォトンは、全ての半導体工場の生産性最大化のため、今後も活動し続けます。」



ギガフォトンについて



ギガフォトンはリソグラフィ用DUV光源の開発と製造のリーディングカンパニーとして、設立当初から最先端技術を駆使した多くのソリューションを世界の半導体メーカへ提供しています。また、EUV光源の開発にも取り組んでいます。ギガフォトンは研究開発から製造・販売・保守サービスまで、豊富な知識を持った専門家集団として、常にユーザーの目線に立った業界最高水準のサポートを提供し続けていきます。



詳細は<a href="www.gigaphoton.com">www.gigaphoton.com</a>をご覧ください。



<figure class="wp-block-table"><table><tbody><tr><td>報道関係者向けの連絡窓口： ギガフォトン株式会社 経営企画部 大石憲司 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com</td></tr></tbody></table></figure>

ギガフォトン、最先端のArF液浸リソグラフィ光源「GT66A」が本格稼働

<h5 class="wp-block-heading">従来の2倍の生産能力で市場需要の大幅増加に応える</h5>



2021年9月15日



栃木県小山市；2021年9月15日、半導体リソグラフィ用光源メーカーである<a href="https://gigaphoton.com">ギガフォトン株式会社</a>（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、2023年までにエキシマレーザ光源の生産キャパシティを従来の2倍に増強すると発表しました。



昨今、世界での半導体需要は大幅に増加し、各国の主要半導体メーカーでは半導体製造装置への投資が加速しています。半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトンにおいても、市場からの要求が増加しており、今後も底堅い需要が継続的に見込まれています。



ギガフォトンでは、この需要増に対する安定供給に向けて、生産設備の拡充を行っています。現在、既存の生産設備の最大活用化と生産工程の効率化・最適化を図るとともに、2022年4月完成に向けて新社屋を建設しています。また、今後のさらなる生産拡大についても計画中であり、2023年までに生産キャパシティを従来の2倍に引き上げます。



ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「世界中で半導体需要が高まる中、弊社としてもお客様からの需要に全力で応えていく姿勢です。今年度は、既存のリソースをフル稼働させて生産にあたるとともに、生産計画やリードタイムを効率化していきます。来年は新社屋が完成し、さらに安定した供給体制が整います。今後も半導体製造に不可欠なリソグラフィ用光源メーカーとして、責任をもって、製品の供給及び稼働のサポートを通じて産業界に貢献していきます。」



ギガフォトンについて



2000年設立以来、ギガフォトンは光源メーカーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。



報道関係者向けの連絡窓口： ギガフォトン株式会社 経営企画部 高久賢次 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com

ギガフォトン、エキシマレーザ光源の生産キャパシティを増強

8月19日、新型コロナウイルス拡大への対策として、日本政府は緊急事態宣言の対象地域を、ギガフォトン本社がある栃木県を含む13都道府県に広げました（8月20日から9月12日まで）。



しかしながら当社は「緊急事態宣言下においても事業継続が求められる事業者」である半導体工場のサプライヤであることから、工場での生産、半導体工場への装置・部品の納入、およびサービス・サポートを継続してまいります。また当社のサプライヤについても生産・供給能力に関して、今後も注意深く確認をしてまいります。



＜当社へのご訪問（日本国内）について＞



お客様およびサプライヤ様等の当社へのご訪問は、当社窓口担当者とご相談の上、極力控えて頂きますようお願いをしております。やむを得ず、当社を訪問される場合は「事前確認票」の記入をお願いしておりますのでご了承下さい。



＊海外における来社対応については、下記海外拠点連絡先へお問い合わせください



＜当社における新型コロナウイルス感染症対策＞



<ol class="wp-block-list"><li>手洗いの励行、マスクの着用の義務化</li><li>毎朝の検温実施</li><li>新型コロナウイルス感染症対応：従業員行動マニュアルの配布</li><li>サービス・サポートを除く国内外の不要不急の出張の原則禁止</li><li>遠隔地からも業務可能な全従業員の在宅勤務</li><li>お客様およびサプライヤ様等とのオンラインミーティングの推奨</li></ol>



*ご質問については、下記の連絡先へお問い合わせください。



新型コロナウイルス（COVID-19）によって亡くなられた方々にお悔やみ申し上げると共に、影響を受けた方々の一日も早い回復と、感染の終息を心よりお祈りいたします。



ギガフォトン株式会社 代表取締役社長 浦中　克己



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><tbody><tr><td>報道機関お問合わせ窓口 経営企画部 高久賢次 E-Mail：web_info@gigaphoton.com TEL：0285-37-6931 サプライチェーンに関するお問合わせ窓口 生産部購買課 亀田英信：hidenobu_kameda@gigaphoton.com 清水梨花：rika_shimizu@gigaphoton.com TEL: 0285-28-8433 サービス・サポート、物流に関するお問合せ窓口 カスタマサポート部 （国内） 溝上貴之：takayuki_mizokami@gigaphoton.com （海外) 岡健治：kenji_oka@gigaphoton.com TEL: 0285-28-8409/8423 商談に関するお問合わせ窓口 営業部 内田清孝 E-Mail：kiyotaka_uchida@gigapoton.com TEL：0285-28-8415 その他に関するお問合わせ窓口 総務部 中村眞由美 TEL: 0285-28-8410 海外拠点連絡先 韓国ギガフォトン 史承學（Seung Hak, Sa）<meta charset="utf-8">：sh_sa@gigaphoton.com ギガフォトン台湾 宮本栄治<meta charset="utf-8">：eiji_miyamoto@gigaphoton.com 鄭麗美<meta charset="utf-8">：limei_cheng@gigaphoton.com ギガフォトン中国 小川哲也<meta charset="utf-8">：tetsuya_ogawa@komatsu.com.cn 何胜杰<meta charset="utf-8">：heshengjie@komatsu.com.cn シンガポール支店 Jason Lim<meta charset="utf-8">：Jason_lim@gigaphoton.com ギガフォトンUSA Dennis Smith<meta charset="utf-8">：dennis.s@gigaphotonusa.com  James Graves<meta charset="utf-8">：james.g@gigaphotonusa.com ギガフォトンヨーロッパ Erik de Bekker<meta charset="utf-8">：GPE_inquiry@gigaphoton.com</td></tr></tbody></table></figure>

日本政府による緊急事態宣言の影響について(第7報)

ギガフォトンが、経済産業省が行う「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」の事業者に採択され、同省のwebサイト上にて紹介されました。



ぜひご一読ください。



（下記、3.採択結果（ 2つのPDFファイル）にギガフォトンの開発テーマが掲載されています）



<a href="https://www.meti.go.jp/press/2021/06/20210616001/20210616001.html">リンクはこちらをクリック</a>



また、本件はNEDO（国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構）の



Webサイトでも紹介されています。



<a href="https://www.nedo.go.jp/koubo/IT3_100178.html">リンクはこちらをクリック</a>

経産省の「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」の事業者に採択されました

ギガフォトンが、VLSI Research社のThe Best Supplier in WFE Subsystemsアワードを受賞し、



同社のwebサイト上にて紹介されました。



ぜひご一読ください。



<a href="https://www.vlsiresearch.com/gigaphoton-honored-with-first-the-best-award-PFEL1SE1000WJOJ#page1">リンクはこちらをクリック</a>



<a href="https://news.mynavi.jp/article/20210521-1891736/">マイナビニュースにも紹介されています。</a>

VLSI Research社のThe Best Supplier in WFE Subsystemsアワード受賞しました

NEDOのプロジェクト「「高輝度・高効率次世代レーザー技術開発」にギガフォトンが参画しています。その成果が、NEDOよりニュースリリースされました。
是非ご一読ください。
こちらをクリック⇩
<h1><a href="https://jpn01.safelinks.protection.outlook.com/?url=https%3A%2F%2Fwww.nedo.go.jp%2Fnews%2Fpress%2FAA5_101408.html&amp;data=04%7C01%7Cchieko_muramatsu%40global.komatsu%7C9aa7f8ac1a414e3eb1fe08d8d4ac8388%7C58be868866254e5280d8c17f3a9ae08a%7C1%7C0%7C637493184690616842%7CUnknown%7CTWFpbGZsb3d8eyJWIjoiMC4wLjAwMDAiLCJQIjoiV2luMzIiLCJBTiI6Ik1haWwiLCJXVCI6Mn0%3D%7C1000&amp;sdata=ClNtDGDk6gmkXtgQuFkSTuRulsJxPPp%2BV2nnip%2B3IPU%3D&amp;reserved=0">NEDOの事業成果を集約したプラットフォームを構築</a></h1>

NEDO（国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構）のニュースリリースのご紹介

2021年2月15日



2月13日に発生しました、福島県沖を震源地とする地震により、被災されたみなさまへ、心よりお見舞い申し上げます。また一日も早い復旧復興をお祈り申し上げます。



現時点におきまして、当社では震災による人命、建物、生産設備、保管製品、調達部品、物流、情報システム等への被害、影響はございません。



代表取締役社長 浦中　克己



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><tbody><tr><td>報道関係者向けの連絡窓口 ギガフォトン株式会社 経営企画部 高久　賢次 TEL: 0285-37-6931 Eメール: web_info@gigaphoton.com</td></tr></tbody></table></figure>

福島県沖地震による当社への影響に関するお知らせ

ギガフォトンは、2月22日(日)～2月26日(木)（アメリカ時間）に開催される「<a href="https://spie.org/search?term=gigaphoton&amp;pageSize=25&amp;pagesVisited=1&amp;sortBy=Relevance&amp;eventName=Advanced_Lithography">SPIE Advanced Lithography 2021</a>」（web開催）において、次の論文発表を行います。



この学会は、先端半導体の製造を担うリソグラフィ技術に関する、世界最大のイベントです。



弊社では、回路形成から基盤加工まで、多岐にわたる先端光源技術により生産歩留まりや稼働率を大きく改善するトピックスを以下の8件紹介する予定です。



<ul class="wp-block-list"><li>プレゼンテーション発表</li></ul>



February 25, 2021 • 10:50 AM PST | Session 11: EUV Source [Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII] Update of &gt;300W High Power LPP-EUV Source Challenge III for Semiconductor HVM &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Hakaru Mizoguchi; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11609-48]



February 24, 2021 • 9:40 AM PST | Session 4: Lithography Equipment and New Applications [Optical Lithography XXXIV] Latest ArF light source with speckle reduction technology for immersion lithography improving chip yield&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Hirotaka Miyamoto; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-11]



February 25, 2021 • 8:50 AM PST | Session 8: Novel Optical and ebeam/ion [Novel Patterning Technologies 2021] Processability of organic material for semiconductor packaging by 248 nm excimer laser&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Akira Suwa; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11610-27]



<ul class="wp-block-list"><li>ポスター発表</li></ul>



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV] ArF lightsource “GT66A” for next-generation immersion lithography enhancing EPE and CD performance &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Tommy Oga; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-30]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV] Study of further CD and OL performance improvement by introducing new E95% spectral bandwidth and Wavelength functionality for ArFi lithography lightsource&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Tommy Oga; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11611-92]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV] Advanced spectral engineering: A new way of process aware laser spectra optimization for optical lithography&nbsp;&nbsp; Author: Koichi Fujii; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-33]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Optical Lithography XXXIV] Lithocell availability improvement through light source maintenance cycle improvement and optimization and its availability impact analysis for cutting-edge ArFi Light source&nbsp;&nbsp;&nbsp; Author: Takehiko Tomonaga; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11613-29]



February 24, 2021 • 5:30 PM PST | Poster Session [Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII] The development progress of the High Power LPP-EUV light source using a magnetic field Author: Hirokazu Hosoda; Gigaphoton Inc. (Japan) [Paper#: 11609-52]

SPIE Advanced Lithography 2021での論文発表予定

2020年12月22日、ギガフォトンは20周年事業の一環である地域貢献を目的に、ウィルス感染予防用のアルコール自動噴霧器を小山市の全小中学校へ寄付しました。アルコール自動噴霧器は、12月22日～24日の間にギガフォトン社員が市内36校を訪問・設置しました。各校からは「生徒達の感染防止に大いに役立ち、大変有難いです。」等の感謝の声を多く頂き、また小山市長からも感謝状が授与されました。



ギガフォトンは今後も、お客様や業界の発展のみならず、地域の皆様の健康・生活に貢献する企業として尽力していきます。



<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter"><img decoding="async" src="https://www.gigaphoton.com/wp-content/uploads/2021/01/8fa0d593c50be4eb8f339a14ae0233bd-300x210.gif" alt="" class="wp-image-6722"/></figure></div>



＜感謝状授与式の様子　市長公室にて＞

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