适配亚10 nm节点浸润式曝光机、为提高生产力做出贡献的ArF准分子激光机
GT65A作为采用注入锁定方式的第7代平台，引入了最先进的技术，通过光谱带宽（E95）可变及稳定性提高实现的“曝光性能改善”、组件寿命延长实现的“高劳动效率”及无氦实现的“减轻环境负荷”，帮助客户进一步实现生产率（晶元输出）的提高。
特色
光谱带宽（E95）可变
根据客户的各式不同需求及用途，光谱带宽可进行对应变化。作为使用示例，可用光谱宽度修正不同代曝光机的对比度性能差异。另外，还可通过光谱带宽可变功能来匹配设备之间或掩模之间的OPC特性＊1
*1）根据所连接的曝光机不同，功能有所差异。
光谱带宽（E95）稳定性提高
光谱带宽控制速度成功提高为原来的20倍。这使得设备操作期间光谱宽度更稳定，并能够减少临界尺寸偏差。
组件寿命延长
通过延长主要组件的寿命，进一步实现维修频率的降低。这使得设备能够长时间运转。
无氦
引入零氦运转ArF准分子激光的技术，实现客户的成本缩减并减轻环境负荷。
主要规格
| 规格项目 | 值* |
|---|---|
| 发射波长 | 193 nm |
| 平均输出功率 | ≥60 W |
| 脉冲能量 | 10.0 – 20.0 mJ |
| 发射频率 | 6,000 Hz |
| 光谱幅度（以 95 %能量累计，E95,） | 0.20 – 0.45 pm |
