GT63A | Gigaphoton

浸润多重曝光装置专用次世代 ArF 准分子激光机“GT63A”

GT63A 为 GT 系列最新机种，采用注入锁定方式，即所谓第五代 GT（GigaTwin）平台。
GT63A 系列投入可实现广泛聚焦深度的光谱控制技术（sMPL） *1)、可达到低运行成本的共振腔技术（sGRYCOS）、可实现高劳动效率的气体控制技术（sTGM）、可达成高稳定性的监控技术（sMONITORING）等四大「s」系列功能，凭借尖端技术为客户创早更多价值、获得更多信赖。
GT 系列获得全球各国主要客户大量采购，其设计构思、可靠性均获高度评价。
GT63A 的平台设计与既有的 GT 系列系出同门，寻求极限共享化，对用户而言，从装置引进起便能期待高度可靠性。

GT63A的特色：四大「s」系列功能

sMPL

sMPL（光谱多复位位 LNM；Spectrum Multi Positioning LNM）技术可提高光谱控制带宽至既有 10 倍以上，达成以激射聚焦钻孔确保广泛聚焦深度之功能。搭载 sMPL 技术后，既有技术难以执行的接点、沟槽、通孔等曝光中放大制作程序窗口工作，可在不导致 CDU、迭合、生产性恶劣影响下完成。且 sMPL 经曝光装置制造商、芯片制造商共同进行量产试验，有效性已获证明。

sGRYCOS

sGRYCOS（60 GIGAPHOTON 回收共振腔操作系统；Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System）技术将准分子激光主要更换零件寿命提高至既有的 1.5 倍，达到低运行成本的需求。提高符合 sGRYCOS 需求全新开发的共振腔预电离强度，加以 GT 系列搭载了行有余力的脉冲功率电源，能提升能量极限，获得耐久性较现有产品大幅提高的成果。

sTGM

sTGM（极致气体总量管理；Supreme Total Gas Manager）技术在波长校正方式上下功夫，免去了现有机种每 2 周需更换一次激射气体的困扰，达成高劳动效率与低成本运转目的。GT 系列培养而成的气体控制技术，可一面回馈效能，一面确保激射共振腔内最佳的气体状态。本次更借由专为 sTGM 新开发的绝对波长校正模块，排除原先绝对波长校正时更换气体的必要性，兼具缩减停机时间与降低气体成本的优点。