自 2000 年公司創立以來,GIGAPHOTON 活用著獨家「雷射技術」與「測光技術」,廣為半導體業界提供高性能微影用光源,成為客戶的後盾。GIGAPHOTON 常以最優先解決客戶問題為己任。之所以在發展腳步飛快的半導體業界能廣博好評,皆因我們認為方法在於「創造並實現解決課題型技術」。 為促進微影技術革新,我們基於前瞻的綜合設計思想,加意著力於核心科技--「雷射技術」與「測光技術」,期許成為客戶更加堅實的後盾。
GIGAPHOTON 常以最優先解決客戶問題為己任。之所以在發展腳步飛快的半導體業界能廣博好評,皆因我們認為方法在於「創造並實現解決課題型技術」。為促進微影技術革新,我們基於前瞻的綜合設計思想,加意著力於核心科技--「雷射技術」與「測光技術」,期許成為客戶更加堅實的後盾。
本公司為因應 ArF 雷射高輸出功率的需求,開發出採用注入鎖定法的 GigaTwin 平台,以作為突破現狀的技術。該方式為在雷射裝置中裝設兩台共振腔(雙腔系統),分別搭載光學共振器,由其中1台共振腔發出低輸出、窄頻譜的雷射光,再由另一共振腔對該雷射光進行增幅。本公司的注入鎖定技術開發,可追溯至1990年代。1993~1994年在通產省大型專案下,研發出 200 Hz、300W 的 ArF 雷射技術。
為了因應近年來業界所擔憂的氖氣和氦氣的供給量減少與漲價,以及全球電力使用量急劇增加的課題,Gigaphoton積極地採用獨自開發的EcoPhoton計畫(註提供了一系列綠色革新技術。2013年開發了一種透過用氮氣代替氦氣的方法將氦氣使用量減少99%*1的技術,2014年開發出了一種eTGM技術,透過該技術可以將氖氣消耗量最多減少50%*2。另外,該公司2015年開發出的eGRYCOS技術可以將雷射放電效率提高20%,憑藉這項技術,在保持雷射性能的同時,能夠降低15%的耗電量。
我們提倡開放和協作的軟件系統。通過Fabscape,我們為客戶提供了一個獨特可高度客制化的開放平台,可用於監控、管理和分析工廠的設備。 Fabscape不僅可以用於Gigaphoton產品,通過定制幾乎可以用於任何供應商的設備。