透過支援半導體需求驟增的最新技術提升產能

2021年10月26日

栃木縣小山市：2021年10月26日，半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社（總公司：栃木縣小山市；總裁：浦中克己）宣布，最尖端的ArF濕浸式微影光源「GT66A」已在世界半導體廠正式運作中。

近年來，全球急速增加的電子產品和雲端設備需求趨勢下，用於這些產品和設備的半導體需求也在激增。再者，由於DX逐步深入到企業，以及為了邁向碳中和社會的EV增產和轉換為可再生能源等，半導體在社會基礎設施中扮演樞紐的角色，因此更進一步帶動半導體的需求。特別是自動駕駛和高性能伺服器 ，這種同時具備高速運算和低耗電的高端設備需求的成長，更加速了半導體的需求。

GT66A是支援這種高端設備專用半導體所需5nm節點，以及生產新世代節點的機種。

此外，GT66A透過降低 (30%) 光斑對比值，以減少佈線和光阻劑曝光圖樣偏離的 EPE。可望藉此抑制顯示壁面微細圖樣凹凸尺寸的LER，以及顯示因凹凸產生圖樣寬幅偏差的LWR，以提升成品率 (yield)。再加上導入高耐久性零組件，將維修週期延長30%，以提升裝置可用性，並可實現超高產能。

Gigaphoton總裁兼CEO浦中克己表示：「GT66A以穩定生產最尖端半導體及高成品率為指標，特別鎖定提升最尖端製程節點產能之下投入市場。Gigaphoton往後也將繼續透過活動，以利求整體半導體廠的產能最大化。」

Gigaphoton公司簡介
作為開發和生產微影DUV光源先驅企業的Gigaphoton，從成立初期便對全球半導體製造商，提供運用最尖端技術的多項解決方案。此外，也積極投入於開發EUV光源。作為具備豐富知識的專業集團，始終站在用戶立場的Gigaphoton，將繼續從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支援。
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