在IC封裝技術研究上，採用提供加工用途的準分子雷射裝置「G300K」

栃木縣小山市；2022年2月16日，半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社（總公司：栃木縣小山市；總裁：浦中克己）宣布，專為加工用途的KrF準分子雷射裝置「G300K」，已獲得台灣國家實驗研究院專案所採用，並已於12/27完成機台導入國立成功大學的作業。

台灣國家實驗研究院 (NARLabos) 籌劃機構之國立成功大學正投入運用準分子雷射裝置，研究IC封裝技術的相關專案。以精細燒蝕加工為首的「優化加工」概念所開發的Gigaphoton KrF雷射光源裝置「G300K」，評估最適合這項研究，因而獲得本專案採用。

Gigaphoton總裁兼CEO浦中克己表示：「在半導體微影以外領域上發展的GIGANEX系列G300K，是以實現Gigaphoton長年培育的99％以上高運轉率、高輸出的微影光源技術為基礎下所開發而成，因此確信可為本次的專案做出貢獻。可為廣泛領域的客戶提供解決方案的GIGANEX系列，今後可望將運用於全新應用領域，為次世代的產業界發展做出貢獻。」

產品 G300K

Gigaphoton公司簡介
Gigaphoton作為開發和生產半導體微影DUV光源先驅企業，從成立初期便對全球半導體製造商，提供運用最尖端技術的多項解決方案。此外，也積極投入開發EUV光源及微影以外領域的DUV光源。Gigaphoton從產品研發到生產、銷售及維護始終站在用戶立場，以具備豐富知識與經驗的專業集團之姿，為用戶提供業界最高水準的支援。
詳細資訊請參閱網站www.gigaphoton.com