實現既有能力150%的高輸出，以滿足未來更高輸出要求的KrF曝光專用光源
沿襲Gigaphoton長年累積的產品技術經驗的KrF光源技術為基礎，支持每小時300片以上掃描光刻處理量的KrF曝光用光源G60K，可提供既有能力的150%的輸出，並透過延長模組壽命至200%以改善可用性。此外，透過新開發的電源和模組，備有因應未來高輸出所需高頻率效能的擴展性，支持日後KrF曝光技術的需求。此外，透過標準配備無氦氣技術，有助於減少気体的消耗量。
主要特點
支持每小時300片掃描光刻機處理量的高輸出
引進新型電源供應裝置，而得以實現往常150%的60W輸出。藉此，即使在厚膜光刻膠等低靈敏度光刻膠中，也能抑制處理量損失，進而提升生產力。
承襲已具實際成果的99.9%以上可用性支援技術
現場上的可用性和效能穩定性皆高而備受客戶所肯定，以G41K技術為基礎的機種，實現在所有輸出領域中99.9%以上的可用性。再者，透過投入新技術，將模組壽命延長至200%，從而提升可用性。
提供可持續發展解決方案
標準配備無氦氣技術的光源，除了為稀有氣體供應不足風險做好準備之外，還採用減少気体等公用設施消耗量的環保技術。
主要規格
| 規格項目 | 值* |
|---|---|
| 振盪波長 | 248 nm |
| 輸出 | 40W – 60W |
| 脈衝能量 | 10mJ – 15mJ |
| 振盪頻率 | 4000Hz |
| 特點 | Continuous Reliability Improvement (CRI) Package 可持續發展解決方案 ・Helium Free Operation ・TGM Gas Management |
