支援Sub 10nm技術節點專用浸潤曝光機，有助提升生產性的ArF準分子雷射裝置
相當於第七代採用注入鎖定技術平台的GT65A機種，導入頂尖技術，以可變頻寬（E95）及穩定性提升帶來的「曝影性能改善」、模組延壽帶來的「高運轉率」、無氦帶來的「減輕環境負擔」，進一步為客戶實現生產性（晶圓產出）的提升。
特色
可變頻寬（E95）
頻寬可配合客戶端各種條件、用途，進行變更。在使用上，可藉由頻寬對不同世代曝光機之間的對比差異進行補正即為一例。此外，亦可透過頻寬可變功能取得OPC特性裝置之間或光罩之間的整合＊1。
*1）功能隨連接的曝光機不同而異。
提升頻寬（E95）穩定性
本機種成功實現了既有機種20倍的頻寬控制速度。這項特色將使裝置運轉期間的頻寬更加穩定，減少臨界尺度錯誤的發生。
模組延壽
主要模組使用壽命獲得延長，進一步地降低了維修頻率。這項特色將使裝置因應更長期間的運轉。
無氦
本機種導入了ArF準分子雷射運轉所需氦氣用量為0的技術。這項特色將為客戶撙節成本，並有助於減輕環境的負擔。
主要規格
| 規格項目 | 值* |
|---|---|
| 發射波長 | 193 nm |
| 平均輸出功率 | ≥60 W |
| 脈衝能量 | 10.0 – 20.0 mJ |
| 發射頻率 | 6,000 Hz |
| 譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95） | 0.20 – 0.45 pm |
