支援 450mm 晶圓多重曝影裝置先進的 ArF 準分子雷射裝置
GT64A 稟持「減低環境負擔」的理念，以極盡壓縮的總操作成本實現世界最高等級的 120W 高輸出功率、高發光性能以及穩定性。
為了追求性能與效率最大化以成為客戶半導體量產體制的後盾，GT64A 採用注入鎖定方式，即所謂第六代 GT（GigaTwin）平台。
繼承 GT 平台優異的雙腔結構、輸出控制演算以及光束定位科技，並且達到 120W 高輸出功率、高發光性與穩定性，為您提供全球頂級的可靠性、復原時間以及模組壽命。同時因應客戶對於 ArF 準分子雷射裝置的性能提升、刪減總操作成本的需求。
特色
全球頂級效率以及 120W 大輸出功率
GT64A 採用注入鎖定方式，達到全球頂級雷射激發效率，更以此為基礎，於 450mm 晶圓多重曝影方面亦實現保證高產量的 120W 大功率。
自動可變輸出
輸出支援自動可變，可因應客戶製程，供應最適宜的發光量。此外，本功能可避免激發無謂的雷射光，對於降低經常成本、減低環境負擔亦可見效。
雷射光束高穩定性
為求實現多重曝影最為重要的多重疊合精密度（Overlay）、控制臨界尺度以及減低光阻邊緣粗糙度（LER），於所有輸出區域達成高穩定性（能量、頻譜、光束形狀）與長脈衝頻寬。
低環境負擔
將開發理念定為「減低環境負擔」，極度抑制電力、氣體、冷卻源等設備成本，並獲得成功。不僅降低了總操作成本，更符合社會潮流，抑制對環境的負面影響。
主要規格
| 規格項目 | 值* |
|---|---|
| 發射波長 | 193 nm |
| 平均輸出功率 | 60 – 120 W |
| 脈衝能量 | 10.0 – 20.0 mJ |
| 發射頻率 | 6,000 Hz |
| 譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95） | 0.25 pm |
