GT63A | Gigaphoton

浸潤多重曝影裝置專用次世代 ArF 準分子雷射設備「GT63A」

GT63A 為 GT 系列最新機種，採用注入鎖定方式，即所謂第五代 GT（GigaTwin）平台。
GT63A 系列投入可實現廣聚焦深度的頻譜控制技術（sMPL） *1)、可達到低經常成本的共振腔技術（sGRYCOS）、可完成高稼動率的氣體控制技術（sTGM）、可達成高穩定性的監控技術（sMONITORING）等四大「s」系列功能，憑藉尖端技術為客戶更創價值、因應信賴。
GT 系列獲得全球各國主要客戶大量採購，其設計構思、可靠性均獲高度評價。
GT63A 的平台設計與既有的 GT 系列系出同門，尋求極限共用化，對使用者而言，從裝置導入起便能期待高度可靠性。

GT63A的特色：四大「s」系列功能

sMPL

sMPL（頻譜多重定位 LNM；Spectrum Multi Positioning LNM）技術可提高頻譜控制頻寬至既有 10 倍以上，達成以雷射聚焦鑽孔確保廣泛聚焦深度之功能。搭載 sMPL 技術後，既有技術難以執行的接點、溝槽、通孔等曝光中放大製程視窗工作，可於不導致 CDU、疊合、生產性惡劣影響下完成。且 sMPL 經曝光裝置製造商、晶片製造商共同進行量產試驗，有效性已獲明證。

sGRYCOS

sGRYCOS（60 GIGAPHOTON 回收共振腔操作系統；Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System）技術將準分子雷射主要更換零件壽命提高至既有的 1.5 倍，達到低經常成本的需求。提高符合 sGRYCOS 需求全新開發的共振腔預電離強度，加以 GT 系列搭載了行有餘力的脈衝功率電源，能提升能量極限，達到耐久性較既有產品大幅提高的成果。

sTGM

sTGM（極致氣體總量管理；Supreme Total Gas Manager）技術在波長校正方式上下功夫，免去了既有機種每 2 週需更換一次雷射氣體的困擾，達成高稼働率與低成本運轉目的。GT 系列培養而成的氣體控制技術，可一面回饋效能，一面確保雷射共振腔內最佳氣體狀態。本次更藉由專為 sTGM 新開發的絕對波長校正模組，排除原先絕對波長校正時更換氣體的必要性，兼具停機時間縮減與氣體成本降低的優點。