ArF Immersion

ArF Dry

Data Products


<h2 class="wp-block-heading">支援 45nm 或更新技術節點的新產品－6 kHz ArF 準分子雷射裝置</h2>



<p>GT40A 量產出貨未滿一年，GIGAPHOTON 成功研發大幅提昇輸出功率且發射頻率達 1.5 倍（6,000 Hz）的 GT60A 機種。GT60A 與 GT40A 同採注入鎖定方式，即所謂第二代 GT（GigaTwin）平台。GT40A 已獲得全球各國主要客戶採購，其設計構思、可靠性均獲高度評價。GT60A 的平台設計與 GT40A 系出同門，尋求極限共用化，對使用者而言，從裝置導入起便能期待高度可靠性。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>特色</strong></h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong><strong>高輸出、高發射頻率</strong></strong></strong></strong></strong></h4>



<p>經改良發射頻率可達 4,000 Hz 的 GT40A 機種後，效率大幅提昇，於相同平台達到 6,000 Hz 的發射頻率。如此一來，雖然抑制了每次脈衝所需的能量，輸出功率依然提升了 33% 以上，達到 60W。頻率與輸出大幅獲得改善，但支援曝光裝置解析度的頻譜仍能確保與 GT40A 同等性能。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong><strong>可靠性、穩定性</strong></strong></strong></strong></strong></h4>



<p>以實績卓越的 GT40A 的平台進行設計，尋求極限共用化，從裝置導入起便能期待高度可靠性，能讓您安心使用。<br>此外，除了 GT40A 新導入的高階自我診斷功能外，更新增提升裝置有效性（Availability）的參數最佳化功能。可確保包含 GT 系列最大的優勢－－模組可交換性在內的服務性，並實現半導體工廠不可或缺的高可靠性、高稼動率。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值*</th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>60 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mJ</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>頻譜線寬（FWHM）</td><td>0.2 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>0.5 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>


GT60A

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter size-full is-resized"><img loading="lazy" decoding="async" width="800" height="800" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800.png" alt="GT80A" class="wp-image-8942" style="object-fit:cover;width:500px;height:500px" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800.png 800w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-150x150.png 150w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-768x768.png 768w" sizes="(max-width: 800px) 100vw, 800px" /></figure></div>


<h2 class="wp-block-heading has-text-align-center" id="an-immersion-lithography-light-source-that-meets-more-stringent-technological-demands">推進光刻性能的进化浸没光刻光源</h2>



<p>在制造最先进设备时，需要高生产力和可扩展性。这些最先进设备必须满足转移到晶圆上的光刻图案的要求，尤其是EPE（边缘位置误差）和高生产力。作为光源，通过减少直接影响EPE的CD LER / LWR（关键尺寸线边粗糙度/线宽粗糙度），GT80A在大规模生产现场提供了改善的产量。</p>



<p>新的浸没式光刻光源&#8221;GT80A&#8221;成功地通过新开发的模块提高了重复率12.5％。与GT65相比，这导致斑点对比度减少了36％，有助于进一步减小LWR / CDU（关键尺寸均匀性）。这些进展使工艺产量得到进一步提高，并支持在光刻领域的领先节点的高生产力。</p>



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<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h2 class="wp-block-heading" id="key-features">主要特点</h2>



<h3 class="wp-block-heading" id="improved-yield-with-state-of-the-art-nodes">最先进节点的产量提高</h3>



<p>通过增加重复率并应用新的光学模块，GT80A实现了斑点对比度减少36％和LER / LWR改善。这些进展将使光刻中领先节点的产量得到提高。</p>



<h3 class="wp-block-heading" id="high-level-of-availability">高可用性水平</h3>



<p>通过采用新开发的模块，GT80A实现了重复率的提高。这将有助于提高在光刻中领先节点的产量。</p>



<h3 class="wp-block-heading" id="providing-sustainability-solutions">提供可持续解决方案</h3>



<p>GT80A配备了无氦技术，并使用技术来降低公用事业的能源消耗，是一种环保的光源，可以减少稀有气体供应短缺的风险。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h2 class="wp-block-heading" id="general-specifications">一般规格</h2>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>輸出功率</td><td>60 &#8211; 90 W</td></tr><tr><td>重複頻率</td><td>6,750 Hz</td></tr><tr><td>光譜寬度<br>（95％積分能量 &#8211; E95）</td><td>300 +/- 1.5 fm wafer average</td></tr><tr><td>特點</td><td>降低EPE的解決方案<br>提高重複頻率<br>可持續解決方案</td></tr></tbody></table><figcaption class="wp-element-caption">(*) 规格值为代表值</figcaption></figure>
</div></div>


GT80A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500.png" alt="GT66A" class="wp-image-7586" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">應对持续技術進歩要求的液浸用曝光光源技術</h2>



<p>至今，摩爾定律仍在最尖端製品製造領域繼續發展當中，藉此展開細微化的技術節點。這些最尖端設備當中，對轉印於晶圓上的曝光圖案、特別是EPE（Edge Placement Error）具有很高的要求。在作為光源上，透過減少直接影響EPE的CD LER/LWR （Line Edge Roughness/Line Width Roughness），以提升量產現場的產出良率。<br><br>新型液浸用曝光光源技術「GT66A」，藉由新開發的光學模組，成功降低30% 光斑對比，<br>並降低LER/LWR。另外，更藉由引進最新的高耐久性零件，使模組的保養維護週期延長了30%。藉此進一步改善製程產出良率，提升光源可用性，支援最尖端節點量產的高生產力。</p>



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<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading">主要特點</h3>



<h4 class="wp-block-heading">改善最尖端節點的產出良率</h4>



<p>藉由新開發的光學模組，減低30%光斑對比，進而改善LER/LWR。藉此，在微影製程的最尖端節點量產上，更進一步改善產出良率。</p>



<h4 class="wp-block-heading">高水準的可用性</h4>



<p>藉由引進最新高耐久性零件，使模組的保養維護周期延長了30%。藉此實現高水準的可用性，有助於提升生產力。</p>



<h4 class="wp-block-heading">提供可持續發展解決方案</h4>



<p>標準配備無氦氣技術的光源，除了為稀有氣體供應不足風險做好準備之外，還採用減少気体消耗量的環保技術。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading"><strong><strong>主要規格</strong></strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>規格項目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>振盪波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>輸出</td><td>60 &#8211; 90W</td></tr><tr><td>振盪頻率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光譜寬度（95%能量累計-E95）</td><td>300 +/- 1.5fm wafer average</td></tr><tr><td>特點</td><td>減低EPE的解決方案<br>Continuous Reliability Improvement (CRI) Package<br>可持續發展解決方案</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


GT66A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500.png" alt="GT65A" class="wp-image-7594" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">支援Sub 10nm技術節點專用浸潤曝光機，有助提升生產性的ArF準分子雷射裝置</h2>



<p>相當於第七代採用注入鎖定技術平台的GT65A機種，導入頂尖技術，以可變頻寬（E95）及穩定性提升帶來的「曝影性能改善」、模組延壽帶來的「高運轉率」、無氦帶來的「減輕環境負擔」，進一步為客戶實現生產性（晶圓產出）的提升。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading">特色</h3>



<h4 class="wp-block-heading">可變頻寬（E95）</h4>



<p>頻寬可配合客戶端各種條件、用途，進行變更。在使用上，可藉由頻寬對不同世代曝光機之間的對比差異進行補正即為一例。此外，亦可透過頻寬可變功能取得OPC特性裝置之間或光罩之間的整合<sup>＊1</sup>。<br>*1）功能隨連接的曝光機不同而異。</p>



<h4 class="wp-block-heading">提升頻寬（E95）穩定性</h4>



<p>本機種成功實現了既有機種20倍的頻寬控制速度。這項特色將使裝置運轉期間的頻寬更加穩定，減少臨界尺度錯誤的發生。</p>



<h4 class="wp-block-heading">模組延壽</h4>



<p>主要模組使用壽命獲得延長，進一步地降低了維修頻率。這項特色將使裝置因應更長期間的運轉。</p>



<h4 class="wp-block-heading">無氦</h4>



<p>本機種導入了ArF準分子雷射運轉所需氦氣用量為0的技術。這項特色將為客戶撙節成本，並有助於減輕環境的負擔。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading">主要規格</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>≥60 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 &#8211; 20.0 mJ</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>0.20 – 0.45 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


GT65A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500.png" alt="GT64A" class="wp-image-7593" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">支援 450mm 晶圓多重曝影裝置先進的 ArF 準分子雷射裝置</h2>



<p>GT64A 稟持「減低環境負擔」的理念，以極盡壓縮的總操作成本實現世界最高等級的 120W 高輸出功率、高發光性能以及穩定性。<br>為了追求性能與效率最大化以成為客戶半導體量產體制的後盾，GT64A 採用注入鎖定方式，即所謂第六代 GT（GigaTwin）平台。<br>繼承 GT 平台優異的雙腔結構、輸出控制演算以及光束定位科技，並且達到 120W 高輸出功率、高發光性與穩定性，為您提供全球頂級的可靠性、復原時間以及模組壽命。同時因應客戶對於 ArF 準分子雷射裝置的性能提升、刪減總操作成本的需求。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading">特色</h3>



<h4 class="wp-block-heading">全球頂級效率以及 120W 大輸出功率</h4>



<p>GT64A 採用注入鎖定方式，達到全球頂級雷射激發效率，更以此為基礎，於 450mm 晶圓多重曝影方面亦實現保證高產量的 120W 大功率。</p>



<h4 class="wp-block-heading">自動可變輸出</h4>



<p>輸出支援自動可變，可因應客戶製程，供應最適宜的發光量。此外，本功能可避免激發無謂的雷射光，對於降低經常成本、減低環境負擔亦可見效。</p>



<h4 class="wp-block-heading">雷射光束高穩定性</h4>



<p>為求實現多重曝影最為重要的多重疊合精密度（Overlay）、控制臨界尺度以及減低光阻邊緣粗糙度（LER），於所有輸出區域達成高穩定性（能量、頻譜、光束形狀）與長脈衝頻寬。</p>



<h4 class="wp-block-heading">低環境負擔</h4>



<p>將開發理念定為「減低環境負擔」，極度抑制電力、氣體、冷卻源等設備成本，並獲得成功。不僅降低了總操作成本，更符合社會潮流，抑制對環境的負面影響。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<p><strong>主要規格</strong></p>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>規格項目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>60 &#8211; 120 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 &#8211; 20.0 mJ</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>0.25 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>


GT64A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500.png" alt="GT63A" class="wp-image-7583" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">浸潤多重曝影裝置專用次世代 ArF 準分子雷射設備「GT63A」</h2>



<p>GT63A 為 GT 系列最新機種，採用注入鎖定方式，即所謂第五代 GT（GigaTwin）平台。<br>GT63A 系列投入可實現廣聚焦深度的頻譜控制技術（sMPL） *1)、可達到低經常成本的共振腔技術（sGRYCOS）、可完成高稼動率的氣體控制技術（sTGM）、可達成高穩定性的監控技術（sMONITORING）等四大「s」系列功能，憑藉尖端技術為客戶更創價值、因應信賴。<br>GT 系列獲得全球各國主要客戶大量採購，其設計構思、可靠性均獲高度評價。<br>GT63A 的平台設計與既有的 GT 系列系出同門，尋求極限共用化，對使用者而言，從裝置導入起便能期待高度可靠性。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading">GT63A的特色：四大「s」系列功能</h3>



<h4 class="wp-block-heading">sMPL</h4>



<p>sMPL（頻譜多重定位 LNM；Spectrum Multi Positioning LNM）技術可提高頻譜控制頻寬至既有 10 倍以上，達成以雷射聚焦鑽孔確保廣泛聚焦深度之功能。搭載 sMPL 技術後，既有技術難以執行的接點、溝槽、通孔等曝光中放大製程視窗工作，可於不導致 CDU、疊合、生產性惡劣影響下完成。且 sMPL 經曝光裝置製造商、晶片製造商共同進行量產試驗，有效性已獲明證。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sGRYCOS</h4>



<p>sGRYCOS（60 GIGAPHOTON 回收共振腔操作系統；Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System）技術將準分子雷射主要更換零件壽命提高至既有的 1.5 倍，達到低經常成本的需求。提高符合 sGRYCOS 需求全新開發的共振腔預電離強度，加以 GT 系列搭載了行有餘力的脈衝功率電源，能提升能量極限，達到耐久性較既有產品大幅提高的成果。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sTGM</h4>



<p>sTGM（極致氣體總量管理；Supreme Total Gas Manager）技術在波長校正方式上下功夫，免去了既有機種每 2 週需更換一次雷射氣體的困擾，達成高稼働率與低成本運轉目的。GT 系列培養而成的氣體控制技術，可一面回饋效能，一面確保雷射共振腔內最佳氣體狀態。本次更藉由專為 sTGM 新開發的絕對波長校正模組，排除原先絕對波長校正時更換氣體的必要性，兼具停機時間縮減與氣體成本降低的優點。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sMONITORING</h4>



<p>sMONITORING（智慧監控；Smart Monitoring）技術為線上即時監控雷射效能功能，亦可連接客戶既有之 FDC（故障偵測與分類；Fault Detection and Classification）系統，為裝置穩定稼動做出貢獻。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>60/90 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0/15.0 mJ</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>0.3 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


GT63A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500.png" alt="GT62A" class="wp-image-8005" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">可達全球最高輸出功率 90W、支援浸潤雙重曝光的 ArF 準分子雷射「GT62A」</h2>



<p>GT62A 為 GT 系列最新機種，採用注入鎖定方式，即所謂第四代 GT（GigaTwin）平台。為支援浸潤雙重曝光，供應 90W 的輸出功率。更為因應各方客戶的需求，亦可以 60W 進行運轉，導入系統時的性價比優異。<br>裝置內搭載共振腔、光學零件等耗材的長壽技術，以及讓停機時間減至最低的 GIGAPHOTON 獨家技術，在經濟方面成為您導入最先進科技的後盾。<br>GT 系列獲得全球各國主要客戶大量採購，其設計構思、可靠性均獲高度評價。GT62A 的平台設計與既有的 GT 系列系出同門，尋求極限共用化，對使用者而言，從裝置導入起便能期待高度可靠性。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>GT62A的特色</strong></h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong>高輸出、高穩定性</strong></strong></strong></h4>



<p>採用新研製電源，與 60W 機種 GT61A 相較可提升功率達 50%，實現 90W 高輸出功率。並搭載因應高輸出增加的熱負載對策技術以及新研發的高耐久性光學元件，確保高輸出運轉時的穩定性能。並且標準配備 GIGAPHOTON 獨家技術－－BCM（頻寬控制模組；Bandwidth Control Module），穩定供應頻譜。<br>GT62A 為了因應各方客戶的需求，也推出了 60W 輸出規格機種。如此一來，您可於導入當時壓抑成本，以 60W 輸出持續運轉，等待將來有需要時可升級為 90W，於最適當的時機做出最必要的投資進行使用。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong>抑制成本</strong></strong></strong></h4>



<p>半導體生產裝置的高性能化、高產量化進步速度如飛。我們認為，讓此類生產裝置以極限稼動率運轉方可與客戶工廠生產性的提升接軌，因此 GIGAPHOTON 多年以來不斷持續進行著達成並維持雷射高稼動率的活動。這些技術已配備在 GT 系列，最新機種 GT62A 更配備了更換氣體交換停機時間為既有機種10分之1的科技，以及有效使用共振腔、光學元件延伸實質壽命，延長維修週期並抑制成本的技術。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值*</th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>60/90 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0/15.0 mJ</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>0.35 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>


GT62A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500.png" alt="GT61A" class="wp-image-8013" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">支援 Hyper N.A. 浸潤曝光裝置的最先進 6kHz ArF 準分子雷射裝置產品</h2>



<p><em>支援 N.A. 1.3 以上浸潤曝光裝置的 6kHz ArF 準分子雷射裝置 GT61A</em></p>



<p>GIGAPHOTON 於 GT60A 量產出貨後未及一年，便成功開發頻譜幅度（E95%）較 GT60A 提升 30%，並實現大幅改善雷射共振腔壽命、減少停機時間、減少維修費用成果的 GT61A 機種。GT61A 與 GT40A、GT60A 同採注入鎖定方式，即所謂第三代 GT（GigaTwin）平台。GT40A、GT60A 已獲得全球各國主要客戶採購，其設計構思、可靠性均獲高度評價。GT61A 的平台設計與 GT40A/GT60A 系出同門，尋求極限共用化，對使用者而言，從裝置導入起便能期待高度可靠性。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>GT61A的特色</strong></h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong>頻譜性能</strong></strong></strong></strong></h4>



<p>針對達到頻譜幅度（E95%）0.5pm 的 GT60A 進行大幅改良，於同一平台上達到頻譜幅度 0.35pm 的成果。此外也標準配備新研製的高精密量測裝置以及穩定化機構，能夠在裝置有效期間內常保頻譜性能高度穩定。此舉預料對曝光製程穩定性將有助益。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong>稼動率・可靠性</strong></strong></strong></strong></h4>



<p>雷射共振腔壽命得以延長，故可縮短維修停機時間並降低成本。同時也確保了包含 GT 系列最大的優勢－－模組可交換性在內的服務性，實現半導體工廠不可或缺的高可靠性、高稼動率。此外更以實績卓越的 GT40A/GT60A 的平台進行設計，尋求極限共用化，對使用者而言，從裝置導入起便能期待高度可靠性。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值*</th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>60 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mJ</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>0.35 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>


GT60AGT60A

支援 45nm 或更新技術節點的新產品－6 kHz ArF 準分子雷射裝置

特色

高輸出、高發射頻率

可靠性、穩定性

主要規格

Other ArF Immersion